卢朝靖
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王世敏
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邝安祥
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黄桂玉
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王龙海
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王典芬
材料研究学报
采用XPS方法研究了sol-gel工艺制备的KTN(x=0.35)薄膜的成分和结构.结果表明,除了表面被碳污染外,薄膜中无残余的碳和其他杂质.其成分与原料的化学计量比相近,且沿深度均匀分布.各元素的化学状态证实薄膜系钙钛矿型KTN结构.Ar+溅射后的XPS谱反映K严重偏低,Ta和Nb的化学状态改变,是Ar+轰击引起K择优溅射及化合物分解所致.
关键词:
钽铌酸钾(KTN)薄膜
,
valence state. XPS
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sol-gel
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KTN thin film. Ar~+ sputtering
