杨孝容
,
黄敏
,
刘素君
,
宋九华
色谱
doi:10.3724/SP.J.1123.2011.01210
用高效液相色谱法研究60Co-γ照射天麻后其主要指纹峰的变化,评价经60Co-γ照射后天麻化学成分的稳定性,以便正确选择60Co-γ照射灭菌剂量.采用高效液相色谱分析了8批照射不同剂量60Co-γ射线的天麻样品,采用国家食品药品监督管理局推荐的“中药色谱指纹图谱相似度评价系统(2004A版)”计算处理,匹配了 14个共有指纹峰,确定10个主要指纹峰.研究天麻样品照射不同剂量60Co-γ射线后主要指纹峰峰面积的相对标准偏差(RSD)和变化规律,判断主要指纹峰对应物质的稳定性,评价60Co-γ照射对天麻化学成分的影响.结果表明,60Co-γ照射对天麻10个主要指纹峰中的3个峰有明显影响,且影响与照射剂量之间有良好的相关性.用60Co-γ射线照射天麻,其中的某些化学成分不稳定,因此在用60Co-γ射线照射灭菌时应选择低剂量照射天麻.
关键词:
高效液相色谱
,
60Co-γ照射
,
主要指纹峰
,
稳定性
,
天麻