钟丽应
,
曹发和
,
刘文娟
,
张昭
,
张鉴清
材料科学与工程学报
研究了AM60镁合金在0.1 mol/L NaC1,Na2SO4和饱和Mg(OH)2溶液中浸泡96小时的电化学阻抗谱(Electrochemical impedance spectroscopy,EIS)行为.溶液中含有C1-时,阻抗谱呈现高中频两个容抗弧和低频感抗成分,且低频感抗组分在浸泡36小时后消失.AM60浸泡在Na2SO4溶液中具有类似的电化学阻抗行为,区别在于低频弛豫过程和容抗大小.相比于C1-离子,SO42-离子具有相对较弱的腐蚀进攻能力.在饱和Mg(OH)2溶液中,由于Mg(OH)2弱水解有效抑制了阴阳极反应(极化曲线结果),EIS谱图仅有中高频两个容抗弧,没有对应孔核形成和消失的低频感抗行为.由于高频容抗弧对应AM60原表面的双电层信息,其弥散系数n、分形维数DE可以获取腐蚀过程中的细节信息.阻抗分形维数DE随时间的变化曲线结果表明C1-具有最强的腐蚀进攻性.同时也具有再钝化效应,以修复由于C1-进攻形成的孔核.SO42-离子腐蚀进攻性相对较弱,且没有再钝化现象.饱和Mg(OH)2溶液中DE的增加主要是由于不溶性Mg(OH)2沉积吸附在镁合金表面,增加表面的粗糙度.
关键词:
AM60
,
EIS
,
分形维数
,
腐蚀
,
镁合金
