庞世红
,
王承遇
,
李西平
,
刘静维
,
唐艳玲
材料导报
利用APCVD方法在浮法玻璃表面沉积了TiO2薄膜,并用XRD和AFM分别研究了不同沉积温度下薄膜的晶型结构以及表面形貌.结果表明,随着沉积温度的升高,薄膜的晶型逐渐由无定形态转变为锐钛矿和金红石,薄膜的表面平均粗糙度逐渐变大.
关键词:
APCVD
,
TiO2
,
晶型转变
,
浮法玻璃
朱建强
,
刘涌
,
王靖
,
詹宝华
,
宋晨路
,
韩高荣
硅酸盐通报
doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2005.06.018
采用APCVD工艺用硅烷和乙烯为原料在620℃沉积硅薄膜.用AFM观察薄膜表面形貌,用SEM扫描截面测量薄膜厚度.FTIR光谱表明薄膜中存在Si-C.研究了C2H4/SiH4摩尔比对膜厚的影响,随着C2H4/SiH4的增大,薄膜的沉积速率降低,表明乙烯掺杂会抑制薄膜生长,同时乙烯的加入减弱了颗粒的异...
关键词:
APCVD
,
硅薄膜
,
乙烯掺杂
,
AFM
,
FTIR
王薇薇
,
郭玉
,
张溪文
,
韩高荣
材料导报
概述了TiO2的国内外发展现状,从原理、改性等方面详细介绍了TiO2的光催化特性,并对TiO2的制备方法进行了总结概括.用APCVD法所做的气体流量系列掺氮TiO2样品进行测试分析发现,氮已经掺入TiO2中,氮的掺杂改善了薄膜表面的亲水性能.
关键词:
光催化性
,
掺氮
,
TiO2
,
薄膜
,
APCVD
吴玲
,
赵高凌
,
段钢锋
,
汪建勋
,
韩高荣
功能材料
利用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备了钒(V)掺杂的氮化钛(TiN)薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻仪和分光光度计等对TiN薄膜的结构、形貌、以及光电性能进行了分析.结果表明,薄膜呈典型的粒状结构.随着沉积温度的升高,...
关键词:
APCVD
,
沉积温度
,
掺钒
,
氮化钛
,
结构和性能
孟祥森
,
马青松
,
葛曼珍
,
杨辉
硅酸盐通报
doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2000.02.006
我们用常压化学气相沉积法(APCVD),以SiH4和NH3为先驱体,在较低的温度(＜700℃)下制备氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,并对其性能进行了研究.研究结果表明氮氧化硅薄膜能使改性后平板玻璃硬度提高40%,并具有良好的抗高温氧化性,这种薄膜在材料表面改性领域有着广阔的应用前景.
关键词:
氮氧化硅
,
APCVD
,
硬度
,
高温氧化性
,
表面改性
詹宝华
,
宋晨路
,
刘涌
,
朱建强
,
韩高荣
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.06.016
通过硅烷、乙烯和氮气的混合气体在620下采用常压化学气相沉积(APCVD)法沉积了非晶硅薄膜,讨论了乙烯/硅烷的体积比(R=VC2H4/VsiH4)对薄膜的光学性质的影响.用Raman光谱、红外光谱和紫外-可见光光谱仪对薄膜进行表征.结果表明通过乙烯掺杂制备的薄膜样品中存在着Si-C键,在R值变化的...
关键词:
APCVD
,
非晶硅薄膜
,
红外光谱
,
紫外-可见光光谱
,
光学带隙
计峰
,
马瑾
,
王玉恒
,
余旭浒
,
宗福建
,
程传福
,
马洪磊
功能材料
采用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃衬底上制备出SnO2薄膜,对薄膜的结构和光致发光性质及退火处理对薄膜结构和发光特性的影响进行了研究.制备SnO2薄膜为六角金红石结构,最大晶粒尺寸约为1000nm.室温光致发光(PL)谱测量表明,在396nm处存在强的发光峰.研究了退火处理对发光性质的影响,...
关键词:
APCVD
,
氧化锡薄膜
,
光致发光
李铭
,
高倩
,
刘涌
,
宋晨路
,
韩高荣
材料科学与工程学报
SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火（深加工）后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行不同的退火处理。并通过一系列的研究,结果发现,薄膜的结构...
关键词:
Low-e
,
SnO2∶F薄膜
,
退火
,
常压化学气相沉积
