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溅射氩气压对射频磁控溅射制备 ZnO∶Al 薄膜性能的影响

刘超英 , 陈玮 , 徐志伟 , 付静 , 左岩 , 马眷荣

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.07.011

采用磁控溅射方法在玻璃衬底上使用掺杂3%(质量分数)Al2 O 3的 ZnO 陶瓷靶材制备出了掺铝氧化锌(ZnO ∶ Al,AZO)透明导电薄膜.分别用XRD、SEM、四探针测试仪、紫外-可见分光光度计对薄膜的性能进行了表征和分析.研究了溅射过程中不同氩气压强(0.3~1.2 Pa)对薄膜结构、形貌及光电性能的影响.XRD 测试结果表明,所制备的薄膜均具有呈c 轴择优取向的纤锌矿结构.当氩气压强为0.3 Pa时,AZO 薄膜的电阻率最低为6.72×10-4Ω?cm.所有样品在可见光波段的平均透过率超过85%.

关键词: 氩气压力 , 射频磁控溅射 , AZO 薄膜 , 光电性能

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