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AlN插入层对AlGaN/GaN外延材料电学性能影响

王侠

人工晶体学报

采用MOCVD制备了带有MN插入层AlGaN/GaN异质结构外延材料,对外延材料分别进行了原子力显微镜AFM、双晶XRD以及变温HALL测试.测试结果表明:具有AlN插入层的外延材料表面非常平整,10 μm × 10 μm范围样品的表面均方根粗糙度RMS仅为0.302 nm,AlGaN势垒层衍射峰更...

关键词: MOCVD , AlN插入层 , AlGaN/GaN异质结构 , 外延 , 迁移率

低温AlN插入层的生长温度对AlGaN/GaN量子阱应力弛豫作用的影响

刘子超 , 章海霞 , 甄慧慧 , 李明山 , 尚林 , 许并社

人工晶体学报

利用高分辨X射线衍射仪(HRXRD)及原子力显微镜(AFM)研究了低温AlN插入层的生长温度对AlGaN/GaN量子阱应力弛豫作用的影响.结果表明,低温AlN插入层不同的生长温度会导致AlGaN/GaN量子阱不同的表面粗糙度及穿透位错密度,并且当生长温度达到640℃时样品中表面粗糙度及穿透位错密度达...

关键词: AlN插入层 , 生长温度 , AlGaN/GaN量子阱 , 应变弛豫

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