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Ar流量对ECR-PECVD制备氢化纳米晶硅薄膜结构及性能影响研究

张学宇 , 吴化 , 刘耀东 , 吴爱民

人工晶体学报

采用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)设备制备了氢化纳米晶硅薄膜.通过Raman光谱、XRD和紫外-可见分光光度计的测试分析,研究了Ar/H2对薄膜组织结构和光学性能的影响,并对沉积腔室的等离子体环境进行了系统的诊断.实验发现:少量Ar气的通入有利于提高腔室中的电子温度,保证...

关键词: nc-Si∶H , Ar/H2 , 等离子体诊断 , ECR-PECVD