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MPCVD生长B掺杂金刚石膜的二次电子发射研究

丁明清 , 李莉莉 , 冯进军

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132805.0688

研究了B掺杂金刚石膜的负电子亲和势(NEA)的行为.对于B2H6/CH4为10 mg/L和2 mg/L的样品,一次电子能量为1 keV时最大二次电子发射系数(SEE)分别达到18.3和10.9.值得注意的是,这两个样品在测试前已在大气中搁置了几个星期,并且测量前未经过任何处理.如此高的SEE表明,样...

关键词: B掺杂金刚石膜 , 负电子亲和势 , 二次电子发射系数 , 氧化处理