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pH 值和表面活性剂对硅溶胶 CMP 抛光液的影响

张琳琪 , 夏琳 , 彭进 , 邹文俊

表面技术

目的：研究 pH 值以及表面活性剂种类对 CMP 抛光液稳定性及抛光性能的影响。方法向硅溶胶中加入酸性或碱性 pH 值调节剂，配制不同 pH 值的 CMP 抛光液；通过添加不同类型的表面活性剂，研究表面活性剂对抛光液的稳定机理。结果硅溶胶 CMP 抛光液 pH 值为9.5时，加入非离子表面活性剂，抛...

关键词: 硅溶胶 , CMP 抛光液 , pH 值 , 表面活性剂