张琳琪
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夏琳
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彭进
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邹文俊
表面技术
目的：研究 pH 值以及表面活性剂种类对 CMP 抛光液稳定性及抛光性能的影响。方法向硅溶胶中加入酸性或碱性 pH 值调节剂，配制不同 pH 值的 CMP 抛光液；通过添加不同类型的表面活性剂，研究表面活性剂对抛光液的稳定机理。结果硅溶胶 CMP 抛光液 pH 值为9.5时，加入非离子表面活性剂，抛光90 min 后，铝合金表面粗糙度降低了55.4%，光亮度增加了131%，抛光质量较好。结论弱碱环境下，抛光液的稳定性和抛光性能优良，非离子表面活性剂有利于 CMP 抛光液的稳定性。
关键词:
硅溶胶
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CMP 抛光液
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pH 值
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表面活性剂
