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电荷转移型自动氧化还原(CT)纳米催化剂在抗茵涂层中的性能研究

郭静 , 周顺莉 , 刘春花 , 梁岩

涂料工业

通过抗菌测试为CT纳米催化剂筛选合适的基底材料、确定CT纳米催化剂添加量;使用激光共聚焦显微镜和扫描电子显微镜观察细菌生物膜形成状态及涂层微观形态;通过测定羟自由基(·OH)、超氧阴离子自由基(·O2ˉ)、丙二醛(MDA)等活性氧(ROS)指标对其抗菌机理进行研究.结果表明:用无机硅胶粘合剂作基底材料的抗菌涂层具有更好的抗菌效果,当CT纳米催化剂在无机硅液体中的添加量为0.3 g/L时,具有最好的抗菌效果,对大肠杆菌的抗菌率达到了40% ~ 50%.激光共聚焦显微镜、扫描电镜下,可观察到含0.3 g/L CT纳米催化剂的抗菌涂层对金黄葡萄球菌生物膜的形成具有明显的抑制作用.涂膜与大肠杆菌、金黄色葡萄球菌反应液中·O2ˉ、·OH、MDA指标的测定结果表明,ROS生成和氧化应激在CT涂膜抗菌过程中起着关键作用,且不依赖光照条件.

关键词: 抗菌涂层 , CT纳米催化剂 , 抗菌性能

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