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CVD-SiC在不同气氛中的叠加氧化行为

罗茜 , 成来飞 , 栾新刚 , 刘小冲

玻璃钢/复合材料 doi:10.3969/j.issn.1003-0999.2010.02.005

采用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD)制备了CVD-SiC陶瓷基片并在1500℃空气中进行预氧化处理,对比研究了预氧化前后CVD-SiC分别在1100、1300和1500℃静态水氧耦合环境下的氧化行为.采用扫描电子显微镜和X-射线衍射分析不同叠加氧化温度条件...

关键词: CVD-SiC , 叠加氧化 , 水氧氧化