毕剑
,
余萍
,
高道江
,
陈连平
,
杨祖念
,
肖定全
功能材料
主要研究了利用恒电流电化学技术制备CaMoO4薄膜的工艺中,电流密度和衬底处理方式对薄膜制备的影响.研究发现,增大阳极氧化电流密度会加快薄膜的生长速度,但会加剧晶粒团簇生长的趋势、减弱薄膜与衬底的附着力和薄膜的均匀性;衬底的不同处理方式对薄膜晶粒的生长速度、沉积方式、均匀性等有较大的影响,在抛光衬底上薄膜的沉积速度比酸腐蚀和粗磨的衬底要快,且不易造成晶粒的团簇生长.结果表明,CaMoO4薄膜的电化学沉积,应在抛光衬底上进行;电流密度控制在0.5mA/cm2附近比较好.
关键词:
CaMoO4薄膜
,
电化学技术
,
电流密度
,
衬底前处理方式
毕剑
,
余萍
,
高道江
,
陈连平
,
肖定全
功能材料
采用恒电流的电化学技术,在高纯金属钼基体上直接制备了白钨矿结构的CaMoO4薄膜;其制备条件为:电流密度0.5mA/cm2,饱和Ca(OH)2溶液的pH值12.0,反应温度70℃,电化学沉积时间250min.X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)分析测试表明,所制备的薄膜为表面均匀致密的四方晶系的CaMoO4单相多晶薄膜.
关键词:
CaMoO4薄膜
,
电化学技术
,
白钨矿结构
,
制备
毕剑
,
张姝
,
赖欣
,
崔春华
,
史芳
,
高道江
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.05.002
在饱和Ca(OH)2溶液中,采用恒电位阳极氧化法制备了白钨矿结构的CaMoO4薄膜;研究了溶液酸度和基体的前处理方式对薄膜制备的影响以及沉积过程中电流的变化;通过XRD、SEM、XPS、FA等测试技术分析了薄膜的晶相结构、表面形貌、化学组成、室温光致发光等特性.结果表明,在抛光基体上沉积的CaMoO4薄膜的晶粒生长更完全,粒径更大,均匀性更好,有更好的室温光致发光特性;在pH＞12.30的溶液中沉积时,易造成晶粒的团簇生长,溶液的pH值控制在12.00附近比较好.
关键词:
CaMoO4薄膜
,
恒电位
,
阳极氧化
,
制备
,
表征
