鲜晓红
,
辜敏
,
李强
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.05.002
以(110)高择优的Cu片为基底,在硫酸盐镀液中采用单槽双脉冲控电位电沉积法制备了Co/Cu纳米多层膜.采用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)分别对多层膜的微观结构和形貌进行了表征.结果表明,Co/Cu多层膜具有良好周期性,多层膜的微结构和表面形貌与表层的金属层紧密相关,也与Co和Cu镀层厚度及其相对厚度、周期数相关.硼酸的加入有利于改善Co/Cu多层膜的层状结构.
关键词:
Co/Cu纳米多层膜
,
电沉积
,
制备
,
微观结构
,
表征
胡滢
,
曹为民
,
印仁和
,
俞文清
,
曾绍海
,
王慧娟
功能材料
采用恒电位双电解槽法在硼酸镀液体系中,以单晶Si(111)为基底电沉积制备Co/Cu多层膜,确定了双槽法制备多层膜的工艺条件,为得到优良的多层膜巨磁阻材料,镀液体系中加入了自制的添加剂.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,小角度X射线衍射(LXRD)谱图中出现了2个衍射峰,大角度X射线衍射(MXRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,表明多层膜具有超晶格结构.用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能,GMR值达到52.52%.
关键词:
电沉积
,
Co/Cu纳米多层膜
,
X射线衍射
,
巨磁阻效应
