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Co/Ni多层膜的热处理研究

王艾玲 , 周云松 , 闵子建 , 陈金昌 , 郑鹉

材料导报

采用磁控溅射方法制备了Co/Ni多层膜并做了热处理,测量了系列样品的结构、磁性和磁电阻.受热处理条件等因素影响,多层膜的层间磁性耦合性质发生变化,电阻率下降,而其各向异性磁电阻的数值没有一致的变化趋势.讨论了磁性层织构和界面对多层膜的磁性与各向异性磁电阻效应的影响.

关键词: Co/Ni多层膜 , 各向异性磁电阻 , 磁性 , 织构

Ta/Pt双底层Co/Ni多层膜的反常霍尔效应

俱海浪 , 李宝河 , 刘帅 , 于广华

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2015.11.004

通过JGP560A型磁控溅射仪制备了一系列以Ta/Pt为底层的Co/Ni多层膜样品,研究了多层膜中Pt缓冲层厚度、周期层中Co与Ni厚度以及多层膜周期数对样品反常霍尔效应和磁性的影响.结果发现:逐渐增厚的Pt层可以使样品的矫顽力增加,但是分流作用会导致样品的霍尔电阻降低,通过比较确定Pt缓冲层的厚度为2nm;磁性层中Co和Ni都处于一定厚度范围内时,多层膜的霍尔回线才能具有良好的矩形度,当厚度超出其特定范围时,多层膜的矩形度会变差,经过分析确定磁性层中Co和Ni的厚度为均0.4nm;磁性层的周期数对样品的性能也有着显著的影响,最终通过对周期数优化获得的最佳样品结构为Ta(2nm)Pt(2nm)Co(0.4nm) Ni(0.4nm) Co(0.4nm) Pt(1nm),该样品的霍尔回线矩形度非常好,霍尔信号明显,该样品总厚度在7nm以内,可进一步研究其在垂直磁纳米结构中的应用.

关键词: Co/Ni多层膜 , 反常霍尔效应 , 垂直磁各向异性

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