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  • 论文(5)

电沉积纳米晶Co-B合金膜的影响因素

廖树帜 , 何晶 , 蒋登辉 , 张淳 , 张邦维

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2007.04.005

通过正交试验和单因素试验,发现电沉积纳米晶Co-B合金的镀速随镀液温度的升高、电流密度的增大、pH的增加而增大.在镀液稳定范围内,随硫酸钴、硼氢化钠质量浓度的增加而增大,随酒石酸钠质量浓度的增加而减小,当四硼酸钠达到一定质量浓度时,对镀速影响较小.在研究范围内所得合金膜全部为非晶态,扫描电子显微镜和...

关键词: 电沉积 , Co-B合金 , 非晶态 , 纳米材料

化学镀法制备Co-B包覆羰基铁复合粉体工艺研究

公建辉 , 丘泰 , 沈春英 , 李晓云 , 杨建

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2007.11.011

以硫酸钴为主盐,酒石酸钠为配位剂,硼氢化钠为还原剂,采用改进的逐步滴加还原剂的方式控制反应进程,用化学镀法制备了Co-B合金包覆羰基铁颗粒的复合粉体.用正交设计方法确定了镀液组成和工艺参数:18 g/L CoSO4·7H2O,60 g/L酒石酸钠,1 g/L NaBH4,铁粉装载量2 g/L,温度7...

关键词: 化学镀 , Co-B合金 , 羰基铁粉 , 正交设计

化学镀Co-B合金(Ⅰ)

王莉萍 , 吴玉程 , 李云 , 张勇 , 李广海

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2004.06.001

利用化学镀的方法,以硫酸钴为主盐,二甲基胺硼烷为还原剂,制备纳米晶Co-B合金,研究了在各种条件下沉积速率的变化.结果表明合适的工艺参数的选择,可得到较好的沉积速率,并可由此得到一个化学镀Co-B合金纳米晶的较优配方参数.

关键词: 化学镀 , Co-B合金 , 纳米晶 , 沉积速率

Co-B合金粉体的制备和电化学行为

吕东生 , 李伟善 , 谭春林 , 曾荣华

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2009.00386

通过NaBH_4还原CoSO_4溶液制备了Co_(0.68)B_(0.32),Co_(0.55)B_(0.45)和Co_(0.50)B_(0.50)一系列超细非晶态Co-B合金粉体. 电化学测试表明,在300 mA/g的高电流密度下,3种合金电极的首次放电容量分别高达510.6,666.4和667....

关键词: Co-B合金 , 非晶粉体 , 化学还原 , 电化学性能

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