焦东玲
,
黄海滨
,
丁红珍
,
邱万奇
材料热处理学报
doi:10.13289/j.issn.1009-6264.2016-X296
采用预三价镀铬再穿透气体渗氮的方法,在纯铁表面制备CrN/Cr2N涂层.研究不同镀铬层厚度、渗氮温度和时间所形成涂层的微观结构和相组成变化规律.随渗氮温度从540℃提高到700℃,镀铬层相结构变化为:Cr→CrN/Cr2N(具有超点阵结构的Cr2N)→CrN/Cr2N.在同一温度(640℃)渗氮,随...
关键词:
氮化铬
,
渗氮
,
镀铬
,
CrN
,
Cr2N
石永敬
,
龙思远
,
方亮
,
潘复生
,
杨世才
中国有色金属学报
研究在不同工艺条件下用直流反应磁控溅射技术在T10衬底上制备Cr-N涂层,并采用光电子能谱仪和XRD依次分析Cr-N涂层的表面结构和工艺参数对Cr-N涂层成分及相组成的影响.结果表明,Cr-N涂层在存放一段时间后表面产生复杂的Cr2O3相以及Cr(O,N)x相;常温下随着N2含量的增加,涂层相结构逐...
关键词:
铬氮涂层
,
磁控溅射
,
T10
,
Cr2N
,
CrN
唐宾
,
李咏梅
,
秦林
,
吴培强
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2005.03.018
以不同氮离子辅助轰击能量制备CrN膜层,利用纳米压入仪及显微硬度计分别测试单晶Si片上膜层的硬度及断裂韧度K1C使用XRD、XPS及EPMA分析离子轰击能量对镀层组织结构的影响.结果表明,采用能量较低的氮离子轰击得到的涂层,由于金属Cr的存在,涂层硬度虽有所降低,但断裂韧度K1C数值较高.选择较低的...
关键词:
离子束增强沉积
,
CrN
,
组织结构
,
微动摩擦学性能
万先松
,
师玉英
,
马军
,
李海庆
,
宫骏
,
孙超
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2009.00759
采用电弧离子镀技术在38CrA调制钢上制备CrN涂层,分析了涂层的组织及结构,研究了工艺参数对CrN涂层中性盐雾腐蚀性能的影响.结果表明:3组不同工艺的CrN涂层均由fcc-CrN,hcp-CrzN以及bcc-Or相组成;在N2压强较低时,CrN相表现为{100}择优取向,N2压强较高时,则表现为{...
关键词:
CrN
,
电弧离子镀
,
盐雾腐蚀
,
动电位极化曲线
吴忠振
,
田修波
,
程思达
,
巩春志
,
杨士勤
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00512
采用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积(HPPMS-PIID)和常规直流磁控溅射复合的方法设计制备了包含高结晶度的CrN纳米粒子的DLC薄膜,并对不同C靶电流时制备的CrN-DLC薄膜的形貌、结构及性能进行了研究.结果表明,随C靶电流的增加,薄膜中的含C量增加,在较高的C含量时形成了明显的DLC薄...
关键词:
高功率脉冲磁控放电
,
类金刚石薄膜
,
CrN
,
结晶度
,
力学性能
王愉
,
陈畅子
,
吴艳萍
,
冷永祥
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.003
目的 采用高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)制备力学性能优良的氮化铬薄膜.方法 采用HIPIMS技术,利用铬靶及氩气、氮气,在不同峰值功率(52.44,91.52,138 kW)下沉积了氮化铬薄膜.采用X射线衍射技术(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、纳米硬度计、摩擦磨损试验机、划痕仪等评价方法,...
关键词:
高功率脉冲磁控溅射
,
峰值功率
,
氮化铬
,
薄膜
,
力学性能
