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沉积温度和退火处理对BCN薄膜结构的影响

杨琼 , 王传彬 , 章嵩 , 张东明 , 沈强 , 张联盟

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.017

采用脉冲激光沉积技术,在Si(100)基片上制备了BCN薄膜,研究了沉积温度和退火处理对BCN薄膜组分和结构的影响.利用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)对制备的BCN薄膜进行了表征.结果表明:沉积温度升高时,BCN薄膜的组分无明显改变.所制备的BCN薄膜包含B-N,C-B和C-N化学键,是由杂化的B-C-N键构成的化合物.真空退火温度为700 ℃时,BCN薄膜结构稳定;大气退火温度达到600 ℃时,BCN薄膜表面发生氧化分解,同时有C≡N键形成,表明C≡N键具有较好的高温热稳定性.

关键词: BCN薄膜 , 沉积温度 , 退火 , 脉冲激光沉积

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