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碳纳米管异质结构的 ECR-CVD法制备

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01244

使用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积方法(ECR-CVD), 以Fe₃O₄纳米粒子为催化剂, 多孔硅为基底, 采用CH₄/H₂和CH₄/B₂H₆

关键词: ECR-CVD , junction , carbon nanotube , boron-dopedenddocument

ECR-CVD制备的SiOx/a-C:F/SiOx多层膜的结构与介电性质

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.02.004

使用80%Ar稀释的SiH4,O2,CHF3和CH4作为前驱气体,利用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法制备了SiOx/a-C:F/SiOx多层膜.傅里叶变换红外测试结果表明了多层膜中存在大量的C-F,C=C,Si-O键,同时由于器壁的吸附效应,膜中还存在少量的Si-C和Si...

关键词: 多层膜 , 氟化非晶碳膜 , 介电常数 , ECR-CVD

ECR-CVD方法生长a-SiNx:H薄膜的研究

鲁涛 , 辛煜 , 吴雪梅

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.04.002

使用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法室温生长了非晶氢化的氮化硅薄膜,通过改变前驱气体(SiH4+80%Ar和NH3)的流量比,研究了薄膜的生长速率、等离子体的发射光谱和薄膜的红外特性.结果表明:随着NH3流量的增加,氮化硅薄膜的生长速率呈下降趋势,这主要是由于等离子体中的气...

关键词: ECR-CVD , a-SiNx:H薄膜 , 发射光谱 , 红外光谱

ECR-CVD制备氟化非晶碳低k介质薄膜

吴振宇 , 杨银堂 , 汪家友

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.02.002

采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法,以C4F8和CH4为源气体在不同气体流量比R(R=[CH4]/{[CH4]+[C4F8]})条件下成功地沉积了氟化非晶碳(a-C:F)低介电常数(低k)材料.采用X光电子能谱和椭圆光谱方法分析了a-C:F薄膜的化学组分和光学性质.沉积的a-...

关键词: 氟化非晶碳 , ECR-CVD , 光电子能谱 , 椭圆光谱

碳纳米管异质结构的ECR-CVD法制备

王志 , 巴德纯 , 于春宏 , 梁吉

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.05.035

使用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积方法(ECR-CVD),以Fe3O4纳米粒子为催化剂,多孔硅为基底,采用CH4/H2和CH4/B2H6/H2两种气源在连续的CVD过程中大量合成了一种新型的纳米管异质结构.扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察表明:合成的异质结构一端是类竹节状的掺硼碳纳米...

关键词: ECR-CVD , 异质结构 , 碳纳米管 , 硼掺杂

ECR-CVD沉积a-C:F薄膜

康健 , 叶超 , 辛煜 , 程珊华 , 宁兆元

功能材料

采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,用苯和三氟甲烷混合气体,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).用红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)分析了a-C:F薄膜的结构.FTIR结果表明,氟主要以C-F、CF2的形式成键形成a-C:F薄膜;XPS结果进一步证明a-C:F...

关键词: a-C:F薄膜 , ECR-CVD , 键结构

用ECR--CVD方法制备定向碳纳米管

王志沈阳 , 巴德纯 , 曹培江

材料研究学报

以Fe$_{3}$O$_{4}$纳米粒子为催化剂, CH$_{4}$和H$_{2}$为气源, 采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术(ECR--CVD) 在多孔硅基底上制备出定向生长的碳纳米管. 研究了气氛组成、气压、温度和反应时间对碳纳米管生长特性的影响. 使用扫描电子显微镜(SEM)、透射...

关键词: 无机非金属材料 , carbon nanotubes(CNTS) , ECR-CVD

厚度对DLC薄膜内应力的影响研究

谷坤明 , 吕乐阳 , 毛斐 , 虞烈 , 汤皎宁

功能材料

采用ECR微波等离子体增强化学气相沉积的方法于C1H2/H2/Ar2等离子环境中在单晶Si(111)晶面上制备了不同厚度的DLC膜样品,研究了薄膜的厚度随沉积时间的变化及薄膜的硬度、内应力随厚度的变化关系.结果表明,在沉积时间变化范围内,厚度与沉积时间基本呈线性关系,沉积速率可达80nm/min;制...

关键词: ECR-CVD , DLC膜 , 内应力

Structure and Mechanical Performance of Nitrogen Doped Diamond-like Carbon Films

Huayu ZHANG , Liangxue LIU , Yulei WANG

材料科学技术（英文）

Nitrogen doped diamond-like carbon (DLC:N) films were prepared by electron cyclotron resonance chemical vapor deposition (ECR-CVD) on polycrystalline Si chips. Film thickness is about 50 nm. Auger electron spectroscopy (AES) was used to evaluate nitrogen content, and increasing N2 flow improved N co...

关键词: Nitrogen doped diamond-like carbon films , doped , diamond-like , carbon , films

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碳纳米管异质结构的 ECR-CVD法制备

ECR-CVD制备的SiOx/a-C:F/SiOx多层膜的结构与介电性质

ECR-CVD方法生长a-SiNx:H薄膜的研究

ECR-CVD制备氟化非晶碳低k介质薄膜

碳纳米管异质结构的ECR-CVD法制备

ECR-CVD沉积a-C:F薄膜

用ECR--CVD方法制备定向碳纳米管

厚度对DLC薄膜内应力的影响研究

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