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Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究

刘意春 , 张家敏 , 严继康 , 杜景红 , 甘国友 , 易健宏

稀有金属材料与工程

在n-型Si片(100)面上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜,并对电沉积过程特征及薄膜的结构和性能进行了研究.当阴极电流密度高于1.0 A/dm2时,可获得连续致密的合金薄膜,且电沉积表现为异常共沉积过程.在1.0～4.0 A/dm2范围内改变电流密度可调控合金薄膜的Ni质量分数从45％到78％之间改变...

关键词: Fe-Ni合金薄膜 , 电沉积 , 硅基底 , 磁性能