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Ge-SiO2薄膜的结构及其发光特性的研究

叶春暖 , 汤乃云 , 吴雪梅 , 诸葛兰剑 , 俞跃辉 , 姚伟国

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.02.003

采用射频磁控溅射技术制备了Ge-SiO2薄膜,在N2气氛下进行了不同温度的退火处理,分析了样品在室温下的光致发光(PL)特性.为探讨其发光机制,对薄膜的结构进行了表征.XRD、XPS、FTIR谱分析说明样品的发光特性与其结构相对应,394nmPL由GeO缺陷引起,580nmPL与Ge纳米晶粒和基质SiO2界面处的发光中心相联系.

关键词: Ge-SiO2薄膜 , 磁控溅射 , 光致发光

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