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四甲基硅烷流量对硬质合金表面沉积的SiC涂层的影响

黑鸿君 , 于盛旺 , 刘艳青 , 丁明辉 , 李义锋 , 唐伟忠

人工晶体学报

采用强电流直流伸展电弧化学气相沉积(HCDCA CVD)技术,在Ar、H2和四甲基硅烷(TMS)先驱体组成的混合气体气氛下,在YG6硬质合金衬底表面沉积了SiC涂层.本文对不同TMS流量条件下制备的SiC涂层的沉积速率、表面形貌、化学成分、物相组成以及附着力进行了对比研究.在此基础上,实验选取表面连...

关键词: HCDCA CVD , SiC过渡层 , 金刚石涂层 , 附着力