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硅基图案化HfO2表面微结构的制备和表征

谈国强 , 博海洋 , 苗鸿雁 , 夏傲 , 贺中亮

功能材料

结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜,该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注.X射线衍射(XRD)与扫描电镜(SEM)显示,在图案区域成功制备了HfO2薄膜,EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成.

关键词: 微图案 , 光刻印 , HfO2微结构

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