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  • 论文(8)

In掺杂对MVB-Te溶剂法生长的ZnTe晶体光电性能的影响

刘航 , 介万奇 , 徐亚东 , 杨睿

人工晶体学报

采用Te溶剂结合改进的垂直布里奇曼法(MVB)制备了In:ZnTe与ZnTe晶体,并对晶体的光学与电学特性进行了表征.通过红外透过显微成像技术观察了In:ZnTe与ZnTe中的Te夹杂并进行了统计分析,发现In掺杂未对ZnTe中的Te夹杂的分布和尺寸产生显著影响.红外透过光谱分析表明,In:ZnTe...

关键词: MVB-Te溶剂法 , In掺杂 , 红外透过显微成像 , Ⅰ-Ⅴ测试 , Hall测试

In掺杂对化学共沉淀法合成的SnO_2粉体Zeta电位的影响

胡学兵 , 周健儿 , 徐小勇 , 汪永清 , 张小珍

人工晶体学报

以四氯化锡、三氯化铟和氨水为原料,采用化学共沉淀法制备了In掺杂SnO_2粉体.实验采用XRD和Zeta电位分析仪对In掺杂SnO_2粉体的物化性能进行了研究.结果表明:当In掺杂浓度为2 mol%时,掺杂SnO_2粉体具有较低的Zeta电位.相对于纯SnO_2粉体,In掺杂改变了SnO_2的晶胞参...

关键词: SnO_2粉体 , In掺杂 , Zeta电位 , 晶胞体积

磁场热处理对Nd2Fe14B/α-Fe纳米材料磁性和微磁结构的影响

计齐根 , 都有为

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.04.005

对Nd2Fe14B/α-F基纳米交换耦合磁体进行了磁场热处理的研究.研究发现:退火温度在硬磁相居里点附近时(300~400 ℃)有明显的处理效果;磁场处理可加强磁性相之间的耦合,提高磁体的矯顽力和剩磁比;磁场可以引发晶粒间的相对滑动和调整;低熔点金属In的少量添加有助于在外加磁场中晶粒的转动.

关键词: 磁场热处理 , 纳米交换耦合磁体 , In掺杂 , 晶粒转动

水热法制备In掺杂ZnO薄膜的表面形貌及其光学性质

戴结林 , 江瑶瑶 , 尚凤娇 , 周智涛 , 王峰 , 赵敏 , 吕建国

硅酸盐通报

采用水热法在ZnO籽晶层上制备了不同In掺杂量的ZnO薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计和荧光光谱仪等测试分析薄膜的微结构、表面形貌、透射谱和室温光致发光谱.结果表明,In离子的掺入未改变薄膜的晶相结构,但抑制了ZnO晶粒的生长,使得ZnO的结晶度明显下降.随...

关键词: In掺杂 , ZnO薄膜 , 表面形貌 , 光致发光谱

CaZr0.9In0.1O3-α高温质子导体管的制备及性质表征

王东 , 史苍际 , 刘春明 , 王常珍

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.02.010

采用固相反应法合成了高温质子导体CaZr0.9In0.1O3-α.XRD分析表明,混合粉体经1673 K×10 h煅烧后形成了预期的钙钛矿结构的CaZrO3基固溶体.激光粒度分析表明,煅烧后的粉体粒度呈双峰分布,主峰对应0.389-0.584 μm,次峰对应3.409-5.867 μm,平均粒径为1...

关键词: CaZrO3 , In掺杂 , 高温质子导体 , 交流阻抗谱 , 电导率

CdZnTe晶体生长中掺In量对晶体电学性能的影响

袁铮 , 桑文斌 , 钱永彪 , 刘洪涛 , 闵嘉华 , 滕建勇

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.01.038

通过在富Te环境下生长In掺杂CdZnTe晶体,实验研究了不同掺In量对晶体电学性能的影响,重点讨论了不同掺In量与晶体电阻率、载流子浓度及迁移率之间的关系.并对CdZnTe晶体中In掺杂的补偿机理进行了分析探讨.结果表明,当In掺杂量为5×1017cm-3时,得到了电阻率达1.89×1010Ω·c...

关键词: 核探测器 , CdZnTe , In掺杂 , 电学性能

In掺杂β-Zn4Sb3热电材料的制备与电热输运

马兵 , 程苏丹 , 赵文俞 , 张清杰

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00598

设计了一系列名义组成为Zn4Sb3-xInx(0~0.08,Δx=0.02)的In掺杂β-Zn4Sb3基块体材料,并用真空熔融-随炉冷却-放电等离子体烧结工艺成功制备出无裂纹的In掺杂单相β-Zn4Sb3基块体材料.300~700 K内材料的电热输运特性表明,In杂质对Zn4Sb3化合物的Sb位掺杂...

关键词: 热电材料 , β-Zn4Sb3 , In掺杂 , 电热输运

In、Ta共掺对BaCeO3烧结性能及稳定性的影响

杨春利 , 严敏 , 李伟

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160021

采用改进的柠檬酸盐法制备了不同In、Ta掺杂量的BaCeO3基质子导体粉体,干压成型后分别在1 150℃、1250℃和1350℃下进行烧结.采用X射线衍射仪、扫描电镜分别对质子导体的物相结构和微观形貌进行了表征,并采用电化学工作站测定了样品不同温度下的电导率.结果表明,1350℃烧结样品气孔率均小于...

关键词: BaCeO3 , In掺杂 , Ta掺杂 , 烧结活性 , 化学稳定性

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