董逊
,
倪金玉
,
李亮
,
彭大青
,
张东国
,
李忠辉
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅰ).024
利用MOCVD法,在7.62 cm蓝宝石衬底上生长了InAlN薄膜及InAlN/GaN 异质结材料.利用XRD、AFM、Hall 等测试方法对材料的组分、表面形貌、电学性质等进行了分析,InAlN 薄膜中 In 含量随生长温度的升高明显降低,材料表面为三维岛状结构;与AlGaN/GaN异质结材料相比...
关键词:
MOCVD
,
InAlN
,
迁移率