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梯度复合KTN薄膜的铁电和热释电性能研究

董兵海 , 王世敏 , 许祖勋 , 吴会光

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.03.011

在Pt/Ti/SiO2/Si基片上采用Sol-Gel法制备了五组分成分梯度分布的KTa1-xNbxO3(x=0.55,0.525,0.50,0.425,040)热释电薄膜.测试结果表明,复合KTN薄膜具有钙钛矿型结构,0.5μmKTN薄膜在15℃至51℃温度范围内,频率1.0kHz时,平均相对介电常数εr=1075,平均介电损耗tanδ=0.011.在室温及120kV/cm下极化30min后,0.5μm复合薄膜在15-51℃温度范围内热释电系数出现峰值,平均热释电系数为3.54×10-6C/(cm2·K),电压响应优值Fv=1.205×10-9C·cm/J,探测度优值Fd=3.768×1-7C·cm/J.该薄膜工作温度范围较宽,作为热释电材料开发应用前景十分广阔.

关键词: 多组分梯度 , KTN薄膜 , 铁电性能 , 热释电性能

采用Sol-gel法制备梯度复合热释电薄膜

董兵海 , 王世敏 , 许祖勋 , 吴会光

材料导报

以TaCl5和NbCl5为原料制备了乙醇钽和乙醇铌,对溶胶-凝胶法制备KTa1-xNbxO3薄膜的工艺过程、影响因素进行了研究,提出了优化的制备工艺,采用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了组分梯度复合KTa1-xNbxO3热释电薄膜.

关键词: KTN薄膜 , 溶胶-凝胶法 , 制备

PLD法制备高取向透明KTa0.65Nb0.35O3/SiO2(100)薄膜性能研究

王晓东 , 彭晓峰 , 张端明

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.05.032

用PLD技术结合后期退火,在透明石英单晶(100)上制备了高取向的纯钙钛矿相KTN薄膜.对薄膜的光学、电学性能分析表明,薄膜铁电居里温度为15℃,矫顽场7.32kV/cm,剩余极化强度9.25μC/cm2,折射率在波长1.2μm处为1.776,厚度968nm,沉积速率约为0.027nm/脉冲.I-V特性表明,低电场强度下,I-V服从欧姆定律,高电场强度下,I-V服从平方关系,可用空间电荷限制电流(SCLC)模型解释.薄膜漏电流在0~5V内低于250μA/mm2,具有良好的电学性能,C-F测试表明,低频电容色散大,高频色散小,在室温10kHz时介电常数为12600.介电损耗tanδ为0.04.

关键词: PLD技术 , KTN薄膜 , 石英单晶

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