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L-色氨酸分子印迹膜的表征、识别性能及识别机理

王超丽 , 胡小玲 , 管萍 , 蒲东

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2012.02.013

以L-色氨酸为模板分子,甲基丙烯酸为功能单体,聚砜为基膜,采用紫外光接枝法制备L-色氨酸手性分子印迹固膜.用扫描电镜和原子力电子显微镜对固膜的形貌进行表征,并对其特异性吸附性能及识别机理进行研究.固膜的手性分离因子高达4.1,由Scatchard模型分析分子印迹固膜与模板分子之间的结合作用力以氢键作用为主.

关键词: L-色氨酸 , 手性拆分 , 固膜 , 分子印迹

三元配合物M(trp)_2(8-hq) [M=Sb(Ⅲ),Bi(Ⅲ)]的合成、表征及电化学性质

钟国清 , 陈明剑 , 蒋琪英 , 张志朋

人工晶体学报

在甲醇中用三氯化铋或三氯化锑分别与L-色氨酸(Htrp)和8-羟基喹啉(8-Hhq)合成了三元配合物M(trp)_2(8-hq) [M=Sb(Ⅲ),Bi(Ⅲ)].用元素分析、X射线粉末衍射和红外光谱对三元配合物进行了表征,研究了其热性质和电化学性质.对XRD数据进行了指标化,结果表明:2种三元配合物均属于单斜晶系, Sb(trp)_2(8-hq)的晶胞参数为:a=1.9322 nm,b=2.3938 nm,c=1.8736 nm,β=99.981°;Bi(trp)_2(8-hq)的晶胞参数:a=1.8938 nm,b=1.6168 nm,c=1.0482 nm,β=95.020°.

关键词: 三元配合物 , 锑(Ⅲ) , 铋(Ⅲ) , L-色氨酸 , 8-羟基喹啉

水/有机溶剂双相体系中色氨酸合成酶酶法合成L-色氨酸

徐礼生 , 刘均忠 , 王治元 , 张宏娟 , 刘伟 , 刘茜 , 焦庆才

催化学报 doi:10.3724/SP.J.1088.2011.10349

在水/有机溶剂双相体系中,利用重组大肠杆菌DM206 [pET28a-trpBA/BL21 (DE3)]色氨酸合成酶催化L-丝氨酸和吲哚合成了L-色氨酸.考察了有机溶剂、有机相乙酸乙酯体积分数、反应温度、水相pH、底物L-丝氨酸与吲哚摩尔比、底物L-丝氨酸浓度、表面活性剂和酶添加量对色氨酸合成酶酶活的影响.结果表明,酶法最佳转化条件为:有机相溶剂为乙酸乙酯,乙酸乙酯的体积分数为2.5%,反应温度为35℃,水相pH值为8,底物L-丝氨酸与吲哚的摩尔比为1∶1.2,底物L-丝氨酸浓度为100mmol/L,吐温80的质量分数为0.4%,反应介质中酶的添加量为20g/L.在此条件下酶促反应2.5 h,L-丝氨酸转化率可达95%.

关键词: 色氨酸合成酶 , L-色氨酸 , L-丝氨酸 , 吲哚 , 乙酸乙酯 ,

盐酸吡哆辛在聚L-色氨酸修饰电极上的电化学行为及其分析测定

姚军 , 李将渊 , 刘敏

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2009.07.017

用循环伏安法(CV)、线性扫描伏安法(LSV)、计时电量法(CC)等研究了盐酸吡哆辛(VB6)在聚L-色氨酸修饰玻碳电极(PTRP/GCE)上的电化学行为及电化学动力学性质. 实验表明,盐酸吡哆辛在PTRP/GCE上于1.085 V处的电极反应为1电子1质子的不可逆氧化反应,在20~400 mV/s范围内,峰电流与扫速的平方根呈良好的线性关系,电极活化面积A为0.29 cm2,扩散系数D为1.961 2×10-4 cm2/s. 在pH=3的HAc-NaAc缓冲溶液中,盐酸吡哆辛在PTRP/GCE上氧化峰电流与其浓度在1×10-4~5×10-6 mol/L范围内呈良好的线性关系,线性回归方程为:ipa(μA)=7.740+408.813c(mmol/L),R=0.993 1,检出限为1×10-6 mol/L,VB6样品测定平均回收率为100.15%.

关键词: 盐酸吡哆辛 , L-色氨酸 , 修饰电极 , 电化学 , 动力学

氧化石墨烯对L-色氨酸荧光猝灭及机理研究

弓巧娟 , 王永东 , 杨海英 , 原梅妮

新型炭材料

采用改进的Hummers 法制备氧化石墨烯,并用红外、拉曼光谱和扫描电镜等手段对氧化石墨烯的结构及形貌进行表征,考察了不同溶剂对L-色氨酸荧光光谱的影响;分别以L-色氨酸、氧化石墨烯为荧光剂和荧光猝灭剂,借助荧光光谱法研究了氧化石墨烯对L-色氨酸的荧光猝灭作用。根据紫外吸收光谱、Stern-Volmer方程和Lineweawer-Burk双倒数曲线方程,得出了氧化石墨烯对L-色氨酸荧光猝灭类型、猝灭速率常数( kq )和结合常数( K)等参数。结果表明,氧化石墨烯对L-色氨酸的荧光有较强的猝灭作用,其荧光猝灭机理是氧化石墨烯与L-色氨酸形成复合物的静态猝灭。

关键词: 氧化石墨烯 , L-色氨酸 , 荧光猝灭

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