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添加剂对四羟丙基乙二胺(THPED)化学镀厚铜的影响

申晓妮 , 赵冬梅 , 任凤章 , 田保红

中国腐蚀与防护学报

为开发THPED-EDTA•2Na化学镀厚铜工艺,研究了添加剂L-精氨酸,聚乙二醇(PEG)和亚铁氰化钾(K4Fe(CN)6)对化学镀速、镀层质量及镀液稳定性的影响。结果表明,适量L-精氨酸能显著提高化学镀速,其适宜的添加量为0.15 mg•L-...

关键词: 添加剂 , electroless thick Cu plating , THPED , L-arginine , ferrous potassium cyanide , PEG

几种添加剂对陶瓷化学镀铜层性能的影响

余祖孝 , 郝世雄 , 罗宏 , 将志鹏

材料保护

陶瓷表面金属化处理的传统镀银工艺存在工艺复杂、设备投资大、成本高、耐焊及耐磨性不足等缺点,使用化学镀铜技术可以很好地解决上述问题.用电化学等方法,研究了添加剂亚铁氰化钾、2,2'-联吡啶和L-精氨酸对陶瓷化学镀铜镀液的沉积速度与稳定性、镀层的耐腐蚀性、导电性及结合力的影响.结果表明:用4%AgNO_...

关键词: 陶瓷 , 化学镀铜 , 活化剂 , 添加剂 , 亚铁氰化钾 , 2,2'-联吡啶 , L-精氨酸 , 性能

L-精氨酸在印制线路板化学镀铜中的行为研究

申晓妮 , 任凤章

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2015.12.002

以次磷酸钠为还原剂的印制线路板化学镀铜为研究对象,采用扫描电镜、交流阻抗和线性极化等测试方法,研究了添加剂L-精氨酸在化学镀铜中的作用和其电化学行为.研究表明,适量的L-精氨酸能明显提高化学镀铜沉积速率,并改善镀层的质量,其最佳质量浓度为0.15 mg/L,沉积速率最高可达5.2 μm/h,施镀15...

关键词: 添加剂 , PCB , 化学镀铜 , L-精氨酸 , 次磷酸钠

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