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许俊华 , 曹峻 , 喻利花
金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00724
采用多靶磁控溅射技术, 分别利用不同V靶功率和石墨靶功率制备一系列不同V含量和C含量的TiVN和TiVCN复合膜.利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪研究了TiVN和TiVCN复合膜的微结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能.研究表明, 当V靶功率为60 W时, TiVN薄膜的硬度达到最大值...
关键词: TiVCN , magnetron sputtering , mechanical property , friction property , Magneli phase