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退火温度对射频磁控溅射法生长的Mg0.16Zn0.84O薄膜性质的影响

张锡健 , 马洪磊 , 王卿璞 , 马瑾 , 宗福建 , 肖洪地 , 计峰

功能材料

采用射频磁控溅射的方法在硅衬底上生长出高质量的Mg0.16Zn0.84O薄膜.用X射线(XRD)、原子力显微镜(AFM)分别研究了在200、400、600和800℃下空气中退火2h的Mg0.16Zn0 84O薄膜的结构、表面形貌.结果表明,Mg0.16Zn0.84O薄膜是六角纤锌矿结构,具有沿与衬底...

关键词: MgZn1-xO薄膜 , AFM , XRD , 退火