宋斌斌
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于涛
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张传升
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李博研
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李新连
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郭凯
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左宁
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赵树利
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陈颉
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.16.008
采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1～1.0Pa下制备了金属Mo膜.用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射(XRD)研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌.结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32～4.81 nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2～11.7 nm之间;溅射气压为0.2 Pa和0.3 Pa时制备的Mo膜显现为张应力;将双层Mo背电极表面制备0.7 Pa的Mo层后,表面更加圆润,孔隙增多.
关键词:
磁控溅射
,
CIGS
,
Mo背电极
,
溅射气压
,
形貌结构
