雷洁红
,
邢丕峰
,
唐永建
,
吴卫东
,
王锋
稀有金属材料与工程
用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用.原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2 nm.X射线衍射(XRD)分析表明,随着能量密度的增加,Mo薄膜衍射峰宽变窄,薄膜从非晶态逐步变为多晶态,晶粒尺寸逐步变大.
关键词:
脉冲激光沉积(PLD)
,
Mo薄膜
,
能量密度
,
表面粗糙度
,
晶粒尺寸
赵志明
,
张晓静
,
马二云
,
曹智睿
,
白力静
,
蒋百灵
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2012.03.014
在室温下,利用不同磁感应强度相对分布因子S的磁控阴极溅射沉积了金属Mo薄膜.实验研究了磁控阴极S值对放电参数、Mo薄膜的结构、形貌及性能的影响.分别利用XRD,SEM和四探针技术对Mo薄膜的相结构、表面和截面形貌及电阻率进行表征分析.结果表明,随着磁控阴极S值的增加,Mo靶放电电压降低,而放电电流增加；不同S值的磁控阴极沉积的Mo薄膜均呈现多晶结构,且具有柱状生长特征；随着磁控阴极S因子的增加Mo膜的厚度和电导率呈现先增加而后减小的变化规律,电阻率最小可达4.9×10-6Ω·cm.
关键词:
磁感应强度分布因子
,
Mo薄膜
,
磁控溅射
,
电阻率
赵志明
,
丁宇
,
曹智睿
,
田亚萍
,
屈直
,
张国君
,
蒋百灵
材料导报
利用磁控溅射技术在Sode-lime玻璃衬底上沉积CIGS薄膜太阳能电池用金属Mo背电极薄膜,并研究了Mo靶功率、基片脉冲宽度以及预清洗时间对Mo薄膜的相结构、形貌及电阻率的影响.结果表明,沉积的Mo薄膜均沿(110)晶面呈柱状择优生长;增大Mo靶溅射功率可以促进薄膜晶粒长大、提高薄膜的致密性、降低电阻率;合适的基片脉冲电压脉宽促进了晶核的形成、长大并有助于沉积过程中Mo晶粒长大,进而降低薄膜电阻率;通过延长预清洗时间可获得致密性好、电阻率低的Mo薄膜,所获得的Mo薄膜最低电阻率为3.5×10-5Ω·cm.
关键词:
Mo薄膜
,
磁控溅射
,
XRD
,
SEM
廖国
,
王冰
,
张玲
,
牛忠彩
,
张志娇
,
何智兵
,
杨晓峰
,
李俊
,
许华
,
陈太红
,
曾体贤
,
谌家军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.024
采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1～0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5～1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大；Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加；不同工作气压下制备的Mo膜为立方结构,在较低工作气压下薄膜结晶性能较好.
关键词:
直流磁控溅射
,
Mo薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
张艳霞
,
闫勇
,
李莎莎
,
黄涛
,
刘连
,
张勇
,
赵勇
,
余洲
稀有金属材料与工程
利用直流磁控溅射法在普通钠钙玻璃(SLG)衬底上沉积双层Mo薄膜,对不同条件下沉积的薄膜通过X射线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻仪等对其相结构、表面形貌以及电性能进行测试.结果表明:双层Mo薄膜呈体心立方结构;由于非晶玻璃基底的影响以及沉积时间较短,缓冲层结晶质量差,薄膜表面粗糙,有空洞、裂纹,电阻率大,随温度的升高电阻率减小,薄膜表现出半导体的特性.随着顶层薄膜(溅射工作气压0.1 Pa)沉积时间的增加,薄膜厚度增加,结晶性能变好,表面更加平整、致密,总体电阻率变小,导电性能提高,随温度的升高电阻率增大,薄膜表现出金属特性.与单层膜相比,双层膜具有更低的电阻率,且溅射时间短,厚度薄,能够降低成本,节省源材料,更符合CIGS电池背电极的需求.
关键词:
Mo薄膜
,
磁控溅射
,
双层膜
,
导电机制
,
电阻率-温度曲线
马国政
,
徐滨士
,
王海斗
,
邢志国
,
张森
稀有金属材料与工程
基于正交试验设计,采用射频磁控溅射技术在不同工艺条件下制备了一系列纯金属Mo薄膜.以薄膜的纳米硬度和结合强度为评价指标,考察分析了溅射靶功率、基片温度、氩气流量和真空度4个工艺参数对溅射Mo薄膜综合力学性能和组织结构的影响规律及机理.结果表明,所制备的多种Mo薄膜均为立方多晶结构,并在(110)和(220)晶面择优生长.薄膜由细小的“树枝”状颗粒随机堆叠而成,表面呈压应力状态.综合考虑薄膜的沉积质量和沉积效率,提出磁控溅射制备Mo薄膜的较佳工艺参数为Mo靶功率100 W,沉积温度120℃,氩气流量90 cm3/min,真空度0.2 Pa.采用优化工艺制备的Mo薄膜具有良好的结晶状态和均匀致密的组织结构,纳米硬度为7.269 GPa,结合强度高达33.8N.
关键词:
磁控溅射
,
Mo薄膜
,
正交试验
,
工艺参数
曹德峰
,
万小波
,
邢丕峰
,
易泰民
,
杨蒙生
,
郑凤成
,
徐导进
,
王昆黍
,
楼建设
表面技术
利用直流磁控溅射技术在单晶Si(110)基底上制备Mo薄膜,分析了工作气压对沉积速率、表面质量及微观结构的影响.结果表明:薄膜的沉积速率随压强的增大而增加；低气压下沉积的Mo薄膜表面质量较好且结构致密,高气压下沉积的Mo薄膜表面质量较差且结构疏松；在工作气压为0.8Pa时,制备的Mo薄膜晶粒尺寸与微观应力值最小.
关键词:
Mo薄膜
,
直流磁控溅射
,
工作气压
,
晶粒尺寸
,
微观应力
刘春海
,
杜晓松
,
汪德志
,
黄宁康
,
杨斌
功能材料
对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的钼膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对钼膜的结合能的影响.分析结果表明,沉积的钼膜中除了单质钼外,还有部分钼的氧化物;H+辐照结果表明,H+的辐照使钼的结合能向低能方向偏移;钼的氧化物有所减少,说明污染的氧化物在一定程度上被择优溅射掉.
关键词:
离子束混合
,
Mo薄膜
,
H+辐照
,
XPS分析
曹德峰
,
邢丕峰
,
韦建军
,
易泰民
,
杨蒙生
,
郑凤成
,
李朝阳
,
谢军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.025
采用直流磁控溅射技术,制备了厚度为3.8μm的Mo薄膜,并对其在不同温度下进行了退火处理.采用白光干涉仪和SEM对Mo薄膜进行了表征,讨论了不同温度对薄膜表面形貌的影响；利用XRD对M薄膜的结构进行了分析.结果表明:随着退火温度由450℃升高到1 050℃,晶粒平均尺寸逐渐增大,微曲应力呈减小趋势；在温度高于900℃时,薄膜发生再结晶,同时表面有微裂缝及大量气孔出现；薄膜的表面粗糙度随退火温度的升高有逐步增大的趋势.
关键词:
Mo薄膜
,
微观应力
,
退火温度
黄涛
,
闫勇
,
黄稳
,
张艳霞
,
晏传鹏
,
刘连
,
张勇
,
赵勇
,
余洲
功能材料
采用直流磁控溅射法在SLG衬底上沉积Mo薄膜,对不同溅射功率和溅射工作气压下沉积的薄膜进行X射线衍射、SEM（扫描电子显微镜）、电阻率测试,讨论了工艺参数对沉积Mo薄膜相结构、表面微观形貌、薄膜沉积速率和电学性能的影响。结果表明,随着溅射功率的增加,薄膜的结晶性能变好,沉积速率提高,在沉积功率范围内薄膜均匀致密,表面无空隙,电阻率较低;随着溅射工作气压增加,薄膜结晶性能变差,沉积速率先增加后降低,在沉积工作气压范围内,薄膜致密;随气压降低,电阻率急剧减小。因此,较高的溅射功率和较低的工作气压沉积的Mo薄膜更适合作CIGS薄膜太阳电池的BC层（背接触层）。
关键词:
Mo薄膜
,
直流磁控溅射
,
电阻率
