王长罡
,
董俊华
,
柯伟
,
陈楠
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2010.00440
在硼酸缓冲溶液中,采用动电位极化、电化学阻抗谱(EIS)和半导体电容分析方法分别研究了Cu电极的极化行为及其表面人工Cu2O钝化膜的化学稳定性.结果表明,低pH值,高Cl-浓度均造成Cu2O钝化膜的破坏和溶解.高Cl-浓度时,Cu2O钝化膜的半导体性质由P型转变为n型,使Cl-更容易进入钝化膜与Cu+络合,并破坏钝化膜从而加速腐蚀.高pH值、低Cl-浓度有利于Cu2O钝化膜稳定.
关键词:
高放废物地质处置
,
Cu2O钝化膜
,
稳定性
,
电化学阻抗谱(EIS)
,
Mott-Schottky方法
