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硼酸缓冲溶液中Clˉ浓度和温度对690合金腐蚀行为的影响

黄发 , 王俭秋 , 韩恩厚 , 柯伟

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00212

在硼酸缓冲溶液中,采用动电位极化、电化学阻抗谱(EIS)和半导体电容分析方法分别研究了Clˉ浓度(0.5-2 mol/L)和溶液温度(25-80℃)对690合金腐蚀行为的影响,并结合AFM,XPS及电位-pH图分析了钝化膜层的腐蚀产物.结果表明,不同Clˉ浓度和温度的溶液中,690合金均表现出沿晶腐蚀和二次钝化的特征.Clˉ浓度和溶液温度的提高均使690合金的自腐蚀电位下降,腐蚀电流密度增大,同时温度的升高还使690合金的点蚀电位降低,钝化区间变窄.恒电位极化相同时间,低电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Cr,Fe的氧化物和Ni(OH)2,钝化膜较薄且致密性好,体现n型与p型共存的特征.高电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Ni2O3,钝化膜较厚但致密性差,体现n型半导体特征.

关键词: 690合金 , 钝化膜 , 动电位极化 , 电化学阻抗谱(EIS) , Mott-Scottky方法

硼酸缓冲溶液中Cl-浓度和温度对690合金腐蚀行为的影响

黄发王俭秋韩恩厚柯伟

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00212

在硼酸缓冲溶液中, 采用动电位极化、电化学阻抗谱(EIS)和半导体电容分析方法分别研究了Cl-浓度(0.5-2 mol/L)和溶液温度(25-80 ℃)对690合金腐蚀行为的影响, 并结合AFM, XPS及电位-pH图分析了钝化膜层的腐蚀产物. 结果表明, 不同Cl-浓度和温度的溶液中, 690合金均表现出沿晶腐蚀和二次钝化的特征. Cl-浓度和溶液温度的提高均使 690合金的自腐蚀电位下降, 腐蚀电流密度增大, 同时温度的升高还使690合金的点蚀电位降低, 钝化区间变窄. 恒电位极化相同时间, 低电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Cr, Fe 的氧化物和Ni(OH)2, 钝化膜较薄且致密性好, 体现n型与p型共存的特征. 高电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Ni2O3, 钝化膜较厚但致密性差, 体现n型半导体特征.

关键词: 690合金 , passive film , potentiodynamic polarization , electrochemical impedence spectroscopy (EIS) , Mott-Scottky relation

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