吴劲峰
,
何乃如
,
邱孟柯
,
吉利
,
李红轩
,
黄小鹏
功能材料
采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P(111)单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、三维轮廓仪、X射线衍射仪(XRD)、X射线电子能谱仪(XPS)、纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了考查.结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的沉积速率降低,Al/...
关键词:
磁控溅射
,
TiAlN薄膜
,
N2流量
,
微观结构
,
硬度
成靖文
,
范洪远
,
田颖萍
硬质合金
doi:10.3969/j.issn.1003-7292.2012.04.003
利用磁控溅射镀膜技术分别在硬质合金YG6X和单晶Si片表面制备TiN薄膜,分析N2流量对薄膜相组成、表面形貌、显微硬度和膜基结合力的影响.结果表明,N2流量对薄膜的微结构以及力学性能具有重要影响.随着N2流量的降低,TiN薄膜表面孔洞和台阶明显减少,表面平整度得到明显改善；薄膜的物相组成在N2流量为...
关键词:
磁控溅射
,
TiN薄膜
,
N2流量
,
硬度
,
结合力
赵升升
,
梅海娟
,
程律莎
,
丁继成
,
王启民
材料研究学报
doi:10.11901/1005.3093.2016.050
采用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了大厚度TiAlN涂层,并对大厚度涂层的力学性能进行了系统的研究.结果表明:梯度增加和循环增加N2流量制备大厚度涂层的厚度分别达到68.79μm和64.48 μm,且涂层力学性能良好;大厚度涂层残余应力沿层深的分布,总体趋势从膜基界面向表面逐渐增大,全膜厚平均压应...
关键词:
材料表面与界面
,
TiAlN
,
电弧离子镀
,
N2流量
,
大厚度
,
力学性能
谢启
,
付志强
,
岳文
,
王成彪
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.025
目的 研究N2流量对等离子体增强磁控溅射TiN涂层组织结构和性能的影响,优化TiN涂层的制备工艺.方法 在不同N2流量的条件下,采用等离子体增强磁控溅射法制备TiN涂层.采用3D形貌仪和扫描电子显微镜观察涂层的表面形貌,利用X射线衍射仪测定涂层的相结构,利用显微硬度计测试涂层试样的硬度,利用球-盘摩...
关键词:
等离子体增强磁控溅射
,
TiN涂层
,
N2流量
,
迟滞回线
,
微观结构
,
摩擦磨损性能
