董燕
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张波萍
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张雅茹
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李向阳
功能材料
采用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2(1mm)/Si基板上制备了Li和Ti共掺NiO基新型无铅介电薄膜材料,研究了薄膜的形貌、结构、介电性能.结果表明,热分解温度(300~500℃)对薄膜结构影响不明显,经600~800℃退火后的薄膜由NiO与Li-Ni-O复合氧化伆组成;经300℃热分解处理、650℃退火后的薄膜,其表面均匀致密,膜厚约300nm,室温下100Hz时的介电常数为767,当频率高于3000Hz后,介电常数随频率的增加趋于减小.
关键词:
NiO薄膜
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溶胶-凝胶法
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介电常数
,
Li和Ti掺杂
王晨
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汪炜
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陈君君
功能材料
采用脉冲电沉积技术在ITO导电玻璃上制备了NiO电致变色薄膜,并用X射线衍射仪、扫描电镜和能谱仪分析薄膜的结构、形貌和成份,用紫外-可见光分光光度计测试薄膜的光学性能,用循环伏安法测试薄膜的电化学性能,对比研究了Co掺杂对NiO薄膜电致变色性能的影响。结果表明Co掺杂优化了NiO薄膜表面形貌,形成了均匀分布的纳米介孔微结构,从而提高了薄膜电化学活性,同时提高了薄膜的光调制幅度。
关键词:
纳米介孔
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电沉积
,
NiO薄膜
,
电致变色
刘晓寒
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王碧玲
,
孙茜
材料保护
过去,对镁合金表面液相沉积氧化物薄膜的研究不多.为了提高镁合金的耐腐蚀性能,以液相沉积法在镁合金表面制备了一层致密的NiO薄膜.采用扫描电镜观察了NiO薄膜的截面和表面形貌;采用X射线衍射仪分析了其成分;通过动电位极化曲线和交流阻抗谱研究了不同沉积时间所得NiO薄膜的耐腐蚀性能.结果表明:随沉积时间的延长,NiO薄膜由花瓣状变为网络交织状,厚度逐渐增加,膜中NiO含量增加,但5h后增加不明显,膜层致密性及耐蚀性先增加后降低;沉积5h所得NiO薄膜表面光滑,为致密网状,防腐蚀性能最好,与AZ91镁合金基体相比,其腐蚀电位正移了706 mV,自腐蚀电流密度降低了1个数量级.
关键词:
液相沉积
,
NiO薄膜
,
AZ91镁合金
,
防腐蚀性能
赵启义
,
祁康成
,
赵荣荣
,
张国宏
材料导报
利用磁控溅射法,在K9玻璃基底上沉积氧化镍(NiO)薄膜.采用不同温度时氧化镍薄膜进行氮气退火,使用UV1700型分光光度计、JSM-6490LV型扫描电子显微镜、四探针电阻计等分析退火后氧化镍薄膜性能的变化.实验结果表明,500℃退火范围内,氧化镍薄膜的透过率随退火温度的升高明显增加,400℃时透过率达到最大在80%以上,且光学带隙最小,结晶度较高,薄膜成分变化较小,更适于太阳电池窗口层的应用研究.
关键词:
磁控溅射
,
NiO薄膜
,
氮气退火
刘爱元
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张溪文
,
韩高荣
材料科学与工程学报
本文利用sol-gel旋涂法在ITO玻璃衬底上成功制备了氧化镍(NiO)薄膜.薄膜在550nm处的透过率为83.9 %,直接禁带宽度为3.65 eV.XRD分析结果表明NiO薄膜为立方晶相,沿(111),(200),(220)晶面生长,垂直于晶面(200)方向的晶粒直径尺寸大约为6.82 nm.循环伏安实验测试表明,NiO薄膜在电化学反应过程中Ni2+不只经历了一次氧化反应,而是被氧化成更高价态的Ni3+ ,Ni4+价态,并通过计算得出薄膜在最强的阳极/阴极峰处的扩散系数为13.4×10-12 cm2/s和2.29×10-12cm2/s,并且薄膜在550 nm处致色态与褪色态的透过率之差为36.5%,Tbleched/Tcoloured为1.8.
关键词:
NiO薄膜
,
溶胶凝胶旋涂法
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电致变色