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脉冲激光沉积Ti50Ni36Cu14薄膜的成分均匀性

李亚东 , 骆苏华 , 高伟健

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.01.013

采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Ti50Ni36Cu14合金薄膜.研究表明,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片/靶间距)、激光脉冲频率有较大关系.当沉积距离(D)为20～30mm时,可获得成分均匀稳定的合金薄膜;当其它条件相同,激光脉冲频率(F)为5Hz时,合金薄膜与靶成分更为接近.采用PLD...

关键词: PLD技术 , Ti50Ni36Cu14 , 合金薄膜 , 成分均匀性

PLD法制备高取向透明KTa_0.65Nb_0.35O₃/SiO₂(100)薄膜性能研究

王晓东 , 彭晓峰 , 张端明

无机材料学报

用PLD技术结合后期退火,在透明石英单晶(100)上制备了高取向的纯钙钛矿相KTN薄膜.对薄膜的光学、电学性能分析表明,薄膜铁电居里温度为15℃,矫顽场7.32kV/cm,剩余极化强度9.25μC/cm²,折射率在波长1.2μm处为1.776,厚度968nm,沉积速率约为0.0...

关键词: PLD技术 , KTN film , single crystal quartz

硅基LiNbO3薄膜的微结构研究

卢焕明 , 叶志镇 , 黄靖云 , 汪雷 , 赵炳辉

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.04.033

利用透射电子显微镜及X射线衍射,研究脉冲激光沉积技术(PLD)在Si(001)衬底上生长LiNbO3薄膜的微结构.结果表明,在600℃的衬底温度、30Pa的氧分压条件下,在硅片表面5nm厚的非晶氧化层上生长的薄膜,为c轴择优取向的单相LiNbO3晶体.本文还讨论了获得c轴择优取向LiNbO3薄膜的生...

关键词: LiNbO3薄膜 , 透射电子显微镜 , PLD技术

PLD法制备高取向透明KTa0.65Nb0.35O3/SiO2(100)薄膜性能研究

王晓东 , 彭晓峰 , 张端明

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.05.032

用PLD技术结合后期退火,在透明石英单晶(100)上制备了高取向的纯钙钛矿相KTN薄膜.对薄膜的光学、电学性能分析表明,薄膜铁电居里温度为15℃,矫顽场7.32kV/cm,剩余极化强度9.25μC/cm2,折射率在波长1.2μm处为1.776,厚度968nm,沉积速率约为0.027nm/脉冲.I-V...

关键词: PLD技术 , KTN薄膜 , 石英单晶

出版年份

• 2005年4篇

刊物分类

• 无机材料学报3篇
• 材料科学与工程学报1篇

相关作者

• 王晓东2篇
• 张端明2篇
• 彭晓峰2篇
• 高伟健1篇
• 卢焕明1篇
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• 李亚东1篇
• 赵炳辉1篇
• 汪雷1篇
• 黄靖云1篇

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