程铁栋
,
杨丽荣
,
唐新桂
,
易见兵
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.04.004
用sol-gel方法在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了具有LaNiO3(LNO)缓冲层的(Pb0.5Sr0.5)TiO3(PSrT50)/LNO/Pt异质结构铁电薄膜.X射线分析发现PSrT50薄膜在(100)方向高度取向,同时扫描电镜图像显示薄膜结构致密、表面平整.通过和直接在Pt上制备的、相同厚度的PSrT50薄膜比较,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在室温下具有更大的剩余极化(Pr=4.5 μC/cm2)和更高的介电常数(εr=850).同时,漏电流机理分析表明,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在低电场作用下呈现Pool-Frenkel发射效应,在高电场作用下则表现为空间电荷限制电流.
关键词:
PSrTS0薄膜
,
介电常数
,
漏电流
,
Pool-Frenkel发射
