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RIE对巨磁电阻自旋阀磁性能的影响

曲炳郡 , 任天令 , 刘华瑞 , 刘理天 , 李志坚 , 库万军

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.03.014

对巨磁电阻自旋阀磁场传感器制作中的关键技术之一:自旋阀薄膜的反应离子刻蚀(RIE)工艺,进行了试验研究.自旋阀结构为:Ta(3.5nm)/Cu(0.7nm)/NiFe(4.5nm)/CoFe(1nm)/Cu(3nm)/CoFe(2nm)/Ru(0.7nm)/CoFe(2nm)/MnIr(8nm)/T...

关键词: 巨磁电阻 , RIE , 自旋阀