殷聪朋
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管伟明
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张俊敏
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刘洪江
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陈勇
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张昆华
贵金属
采用射频磁控溅射技术制备了Ru-B薄膜，利用掠入射X射线衍射(GIXRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)等分析技术对薄膜的相结构、沉积速率以及表面形貌进行了研究分析。结果表明：在室温下制备的 Ru-B 薄膜均为非晶态。薄膜的沉积速率不随溅射时间变化，但随溅射功率的增加而增大。薄膜表面光滑致密质量良好，随着溅射时间的延长，薄膜表面晶粒大小和粗糙度增大。溅射功率影响着基片表面粒子的形核长大和迁移扩散速率，进而影响薄膜的表面形貌。
关键词:
金属材料
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超硬薄膜
,
磁控溅射
,
Ru-B薄膜
,
表面形貌
