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无定型Si-C-O-N涂层用于SSiC陶瓷的表面改性研究

唐惠东 , 孙媛媛 , 李龙珠 , 谭寿洪

硅酸盐通报

为了改善SSiC陶瓷反射率较低的情况,采用RF磁控溅射法在SSiC陶瓷表面涂覆了无定型Si-C-O-N涂层.借助XRD、FTIR、XPS等手段对涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率.结果显示:涂层主要由Si-N、Si-C和Si-O键组成,涂层抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度可达埃级,在可见光波段可将反射率的最低值提升至90%.并运用标量散射理论分析了反射率提高的主要原因.

关键词: SSiC , Si-C-O-N涂层 , 反射率 , 标量散射理论

PVD Si涂层用于SiC陶瓷的表面改性研究

唐惠东 , 谭寿洪

材料导报

为了获得高质量的光学表面,采用RF磁控溅射法在RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVD Si涂层.采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率.结果表明,当RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆PVD Si涂层后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度的均方根RMS可达埃级,反射率提升幅度明显.并简单分析了反射率提高的主要原因.

关键词: PVD Si涂层 , RB SiC , SSiC , 表面粗糙度均方根RMS , 反射率

碳源及添加比例对固相烧结碳化硅陶瓷微观结构及性能的影响

姚秀敏 , 梁汉琴 , 刘学建 , 黄政仁

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2013.12694

研究了碳的添加量为6wt%条件下,添加碳源的种类及添加比例对制备的无压固相烧结碳化硅陶瓷的微观结构和性能的影响.结果表明:采用纯无机碳源(碳黑),制备的碳化硅陶瓷具有较为细小的碳化硅晶粒结构,但致密度较低;添加有机碳源(酚醛树脂)时,随着其裂解碳添加量的增加,碳化硅的晶粒逐步长大,碳在材料中的分布更加均匀,材料的致密度提高,力学性能增强.当有机碳源裂解碳添加量达3wt%时,材料的致密度最高,并具有最大的弹性模量468 GPa,断裂韧性达4.65 MPa·m1/2.当有机碳源裂解碳添加量大于3wt%时,碳化硅晶粒发生局部异常长大现象,材料的弯曲强度与断裂韧性进一步增加.同时,对材料的热扩散系数随碳源添加种类和比例变化的规律也进行了分析与讨论.

关键词: 碳源 , 固相烧结碳化硅 , 微观结构 , 性能

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