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横向尺寸的变化对SiGe HBT高频噪声的影响

高攀 , 张万荣 , 邱建军 , 杨经纬 , 金冬月 , 谢红云 , 张静 , 张正元 , 刘道广 , 王健安 , 徐学良

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.05.017

从发射极条宽、发射极条长、基极条数、发射极与基极间距四个方面分析了横向尺寸变化对SiGe HBT高频噪声的影响.结果表明增加发射极条长、基极条数和减小发射极与基极间距可以较为有效地减小晶体管噪声,而减小发射极与基极间距对噪声的改善效果比较显著.发射极与基极间距从1μm减小到0.5μm,2GHz工作频率下最小噪声系数可减小9dB,在0.5GHz工作频率下最小噪声系数可降至1.5dB,2GHz工作频率下最小噪声系数为3dB.

关键词: HBT , SiGe , 横向尺寸 , 高频噪声

利用第一性原理研究Ge:Si电子结构与光学性质

刘芳 , 王茺 , 杨瑞东 , 李亮 , 熊飞 , 杨宇

材料导报

采用基于密度泛函理论的平面渡超软赝势方法和广义梯度近似,计算了掺杂Ge前后单晶Si中Si-Ge键的布居值、键长以及能带结构和态密度.计算结果表明,Ge掺杂后体系晶格常数发生变化,Ge-Si键变长,布居值及带隙宽度减小.还进一步研究了掺杂Ge后的光学性质,掺杂后静态介电常数值与纯Si相比有所增大,且吸收带宽变窄、吸收带边明显红移,并对这些掺杂诱导的材料物性变化进行了解释.

关键词: 第一性原理 , SiGe , 电子结构 , 光学性质

改善多指功率SiGe HBTs热稳定性的版图设计

金冬月 , 张万荣 , 谢红云 , 沈珮 , 胡宁 , 甘军宁 , 李佳

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.05.017

提出非均匀指间距结构功率SiGe HBTs的版图设计用以改善热稳定性.模拟和实验结果均表明,与传统的均匀指间距结构相比,非均匀指间距结构HBT的峰值结温和温度分布非均匀性均得到显著改善.上述改善归功于非均匀指间距结构HBT中心指间距的增加,从而有效阻止热流由外侧指流向中心指处.此外,与均匀指间距结构器件相比,其热阻改善13.71%,热退化功率水平提高22.8%.因此,模拟和实验均证明采用非均匀指间距结构HBT的版图设计可有效改善功率HBTs热稳定性.

关键词: SiGe , HBT , 热稳定性

应用于无线电发射领域的第二代SiGe技术进展

孙伟峰 , 叶志镇 , 赵炳辉 , 朱丽萍

材料导报

SiGe 1器件性能出色,在射频器件中的频率高达50GHz,已用于制造GSM、DCS、GPS中的LNA、PA、DACs和混频器等.为了满足将来产品更新换代和制造高尖端产品的需要,现在的一些公司(如Atmel Wireless andMicrocontrollers)已经发展了第二代Si/SiGe双极技术(SiGe2).这种高性能的新技术可使发射区的宽度降到0.5μm,输运频率fT和最大震荡频率fmax达到90GHz以上[1];5GHz和20GHz的最大稳定增益(MSG)分别为22dB和11dB.SiGe 2技术能制造出应用更加广泛的各种器件,而0.5μm CMOS技术还处于发展阶段.

关键词: SiGe , 双极 , CMOS , 射频 , MSG

SiGe热电材料的发展与展望

姜洪义 , 王华文 , 任卫

材料导报

热电材料是利用热电效应将电能和热能直接相互转换的功能材料,在热电发电和热电制冷领域都有巨大的应用前景,而SiGe热电材料则是高温域一种很有前途的热电材料.论述了SiGe热电材料的热电特性及制备工艺,阐述了提高材料热电性能的主要途径.

关键词: SiGe , 热电材料 , 掺杂 , 烧结

硅集成电路用SiGe/Si异质结构材料及其制备技术

王凤娥

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2003.06.023

SiGe技术是微电子领域的前沿技术, 在硅基集成电路方面有重要应用. 介绍了SiGe/Si和SiGe-OI两种SiGeSi异质结构材料, 综述了这两种材料的制备技术和研究进展, 讨论了SiGe异质结构材料应用于纳米集成电路等的应用前景.

关键词: SiGe , 异质结构 , 绝缘体上硅锗

Comparison between Double Crystals X-ray Diffraction and Micro-Raman Measurement on Composition Determination of High Ge Content Si1-xGex Layer Epitaxied on Si Substrate

Lei ZHAO

材料科学技术(英文)

It is important to acquire the composition of Si1-xGex layer, especially that with high Ge content, epitaxied on Si substrate. Two nondestructive examination methods, double crystals X-ray diffraction (DCXRD) and micro-Raman measurement, were introduced comparatively to determine x value in Si1-xGex layer, which show that while the two methods are consistent with each other when x is low, the results obtained from double crystals X-ray diffraction are not credible due to the large strain relaxation occurring in Si1-xGex layers when Ge content is higher than about 20%. Micro-Raman measurement is more appropriate for determining high Ge content than DCXRD.

关键词: Si1-xGex , high , Ge , content , composition , determi

Si/SiGe异质结双极晶体管的研制

杨沛锋 , 李开成 , 何林 , 刘道广 , 张静 , 李竞春 , 谢孟贤 , 杨谟华

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.02.007

通过理论分析计算、计算机模拟和工艺实验,对Si/SiGe异质结双极晶体管(HBT)的结构参数进行了精细的优化设计,特别是采用了本征间隔层和新颖的Ge分布曲线,有效地削弱了基区杂质外扩散、基区复合和异质结势垒效应的不利影响.开发了兼容于硅工艺的锗硅HBT工艺,并据此试制出了Si/SiGeHBT,测量结果表明,器件的直流和交流特性均较好,电流放大系数为50,截止频率fT为5.1GHz.

关键词: 锗硅材料 , 分子束外延 , 异质结双极晶体管 , 优化设计

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