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退火对sol-gel法生长的SiO2薄膜特性的影响

郭嘉 , 龚明 , 许小亮 , 张慰萍 , 郭海 , 王燎原 , 陈滢滢 , 刘佩尧 , 刘洪图

功能材料

用正硅酸乙酯(ETOS),乙醇(EtOH),水以及盐酸以一定的比例混合配制溶胶(其中盐酸为催化剂).以普通浮法玻璃为衬底,用浸渍提拉法制备了厚度为100nm左右的SiO2薄膜.对其进行等温和等时退火,用台阶仪测定其厚度变化,给出经验拟合公式.研究了退火对透过率、折射率以及气孔率的影响,并做出比较详细的理论解释.

关键词: 退火 , sol-gel , SiO2薄膜 , 膜厚 , 折射率

不同氧氩比例对氧化硅(SiO2)薄膜的结构及性能的影响

何智兵 , 吴卫东 , 唐永建 , 程丙勋 , 许华

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.02.001

在不同氧氩比例气氛下,采用反应直流磁控溅射方法制备了SiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见光谱(UV-Visible spectrum)等研究了氧氩比例的不同对SiO2薄膜的晶体结构、化学配比、表面形貌和光学性能的影响.结果显示:室温下,不同氧氩比例的SiO2薄膜都为非晶结构;随着氧分量的增加,Si2p与O1s向高结合能方向移动;在氧分量较大的气氛下,SiO2薄膜的化学失配度较小,薄膜均匀,致密,在400-1100nm有良好的光透过性.

关键词: 材料学 , 反应直流磁控溅射 , SiO2薄膜 , 性能

快速热氧化制备超薄二氧化硅层及其钝化效果

郭春林 , 汪雷 , 戴准 , 房剑锋 , 郑佳毅 , 杨德仁

材料科学与工程学报

二氧化硅(SiO2)是制备高效晶体硅太阳电池常用的钝化手段.本文利用快速热氧化(RTO)技术在晶体硅表面制备超薄SiO2层,考察其对硅表面的钝化作用.在100%O2气氛下,900℃RTO处理180s,可以使样品的少子寿命达到146.6μs的最佳值.采用RTO方法制备的SiO2薄膜厚度可以控制在几个纳米范围.通过与等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统沉积的氮化硅(SiNx)薄膜形成叠层钝化膜,可以进一步提高对太阳电池表面的钝化效果.单层SiNx薄膜钝化的样品有效载流子寿命为51.67μs,SiO2/SiNx叠层薄膜钝化的样品有效载流子寿命提高到151.18μs.

关键词: RTO , SiO2薄膜 , 太阳电池 , 钝化

蓝宝石衬底上增透膜的设计与制备

冯丽萍 , 刘正堂 , 李阳平 , 陈继权

功能材料

用抛光铝合金作衬底在平行孪生靶的磁控溅射设备中制备出二氧化钛薄膜,薄膜厚度为500nm,XRD测量表明二氧化钛薄膜为锐钛矿型(anatase).该薄膜在紫外光源照射下,对甲苯、苯、二氧化硫及香烟气体有良好的降解作用;对大肠杆 菌、金黄色葡萄糖菌有良好的去除作用.

关键词: 蓝宝石 , SiO2薄膜 , 膜系设计 , 射频磁控反应溅射

TiO2纳米管/介孔SiO2复合膜的制备及生物活性研究

肖文 , 万隆 , 张珍容 , 胡伟达 , 王志起 , 翟浩冲

材料导报

以表面构筑了TiO2纳米管阵列的金属钛为基底,采用溶胶-凝胶工艺和浸渍-提拉技术涂覆介孔SiO2 薄膜,构建了TiO2纳米管/介孔SiO2复合膜.利用SAXRD、FTIR、HRTEM和FESEM等表征样品的结构和微观形貌.研究表明,在高度有序、规整排列的TiO2纳米管阵列基底上,利用溶胶-凝胶工艺和浸渍-提拉技术涂覆有六方相介孔SiO2薄膜的复合膜具有良好的生物活性.

关键词: TiO2纳米管 , 有序介孔 , SiO2薄膜 , 溶胶-凝胶 , 浸渍-提拉 , 生物活性

利用表面活性剂量改变孔洞率制备的纳米多孔SiO_2膜

姚兰芳 , 谢伏将 , 关飞飞 , 田琳琳 , 方学玲

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.05.013

采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,在酸性条件下产生多孔结构,再经热处理去除CTAB.实验中使用溶胶-凝胶技术,正硅酸乙酯(WEOS)为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自组装体,制备前驱体溶胶.通过简单提拉迅速蒸发溶剂制备纳米多孔或纳米介孔SiO_2薄膜,分析和研究了表面活性荆浓度对纳米多孔SiO_2薄膜的结构和孔洞率的影响,通过操纵表面活性剂的含量,能控制薄膜的纳米结构、孔洞率、孔大小和孔的形态以及膜的形貌.小角度射线衍射、场发射透射电子显微镜、原子力显微镜显示可以制得具有六方、立方和由三维六方和简单立方组成的新相结构以及比介孔大的纳米多孔结构的薄膜.椭偏仪测量得到所制备薄膜的孔洞率为51.8%-65.6%,借助此孔洞率能计算薄膜的折射率和介电常数.

关键词: 纳米多孔 , 介孔结构 , SiO2薄膜 , 表面活性剂 , 改变孔洞率 , 溶胶-凝胶方法

PECVD提高SiO2薄膜致密性的研究

郭文涛 , 谭满清 , 焦健 , 郭小峰 , 孙宁宁

人工晶体学报

为了在高功率980 nm激光器工艺中制备高质量、均匀性好、致密性高的SiO2薄膜,本文研究了PECVD的反应压强、射频功率、SiH4与N2O流量比对SiO2薄膜的沉积速率和BOE腐蚀速率的影响.实验采用BOE腐蚀速率来反映SiO2薄膜的致密性,采用傅里叶红外光谱仪得到SiO2薄膜的红外吸收特性,采用原子力显微镜(AFM)观察SiO2薄膜的表面形貌.通过优化各工艺参数最终获得了BOE腐蚀速率为9.18 nm/s的SiO2薄膜.

关键词: PECVD , SiO2薄膜 , 致密性 , BOE腐蚀速率

甲基纤维素对SiO2薄膜性能的影响

同帜 , 韩丹丹 , 李大川 , 崔双科

膜科学与技术

以正硅酸乙酯为主要原料,采用溶胶凝胶法和浸渍提拉技术在氧化铝支撑体上进行涂膜,研究了在制备过程中引入甲基纤维素(MC)对SiO2薄膜性能的影响.采用FT-IR和AFM、BET等测试技术对膜的热稳定性、凝胶膜热处理前后的结构变化和薄膜的表面微观形貌进行表征.实验结果表明,甲基纤维素对SiO2溶胶体系起到增稠剂的作用,本次实验确定的最佳加入量为每100 mL溶胶中加入0.35g甲基纤维素;SiO2薄膜表面光滑平整,内部结构均匀,具有良好的热稳定性;但与未加入甲基纤维素的薄膜相比较,薄膜的孔隙率和平均孔径均有一定的减少;SiO2薄膜的孔径分布呈单峰且较窄,其最可几孔径为1.14 nm;添加甲基纤维素后的薄膜在0.18 MPa下,纯水通量为880 L/(m2·h);孔隙率约为31%,体积密度为2.4%.

关键词: 甲基纤维素(MC) , 溶胶凝胶法 , SiO2薄膜 , 性能

表面改性后的SiO2薄膜光学性能研究

雅菁 , 杨宁宁 , 胡凤娇

人工晶体学报

用溶胶-凝胶法在酸碱复合催化条件下制备了SiO2溶胶,采用浸渍提拉法在K9玻璃上制备了性能稳定的SiO2薄膜,并用三甲基氯硅烷对SiO2薄膜进行了表面改性.用反射式椭圆偏振光谱仪测试薄膜的椭偏参数,并用Cauchy模型对椭偏参数进行数据拟合,获得了SiO2改性前后在300~ 700 nm波段的色散关系.讨论了薄膜改性与光学性能间的关系.结果表明:Cauchy模型能较好的描述溶胶-凝胶薄膜在300~650 nm波段的光学性能;表面改性后SiO2薄膜光学常数发生改变,但未影响色散关系的变化趋势;薄膜改性后具有随着膜层数的增加,折射率增加,而最大峰值透光率、孔隙率减小的规律,且薄膜改性后表面更加致密.

关键词: 溶胶-凝胶法 , SiO2薄膜 , 椭圆偏振光谱仪 , 光学常数 , 微结构 , 表面改性

PECVD法玻璃容器内壁沉积SiO2薄膜的SEM表征

朱恒伟 , 李文杰 , 张金云 , 叶欢 , 陈国安 , 吕斌 , 吕建国

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2015.05.009

采用自主研制的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)专用设备,在玻璃容器内壁沉积SiO2薄膜,用作阻隔涂层.通过设计沉积工艺,在不同的气体流量比例、工作气压和生长时间等生长条件下制备出SiO2薄膜;通过扫描电子显微镜(SEM)测试表征薄膜的形貌和结构,评价薄膜的性能.根据表征结果分析了各种工艺参数对薄膜性能的影响,获得了较为优化的工艺参数,在玻璃容器内壁制备出较高质量的SiO2薄膜.

关键词: PECVD , 玻璃容器 , 内壁镀膜 , SiO2薄膜 , SEM表征

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