张际亮
,
孙学鹏
,
郦剑
,
沃银花
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.z1.067
采用常压化学气相沉积(APCVD)技术在铝基底上成功制备了改性SiOx陶瓷薄膜.通过显微硬度测试与涂层附着力自动划痕测试定量研究了薄膜显微硬度和膜基结合强度,利用光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜的原始表面以及压痕、划痕形貌.结果表明,SiOx膜层由大小不均匀的等轴状颗粒团聚堆垛...
关键词:
SiOx薄膜
,
Al合金
,
化学气相沉积
,
显微硬度
,
结合强度
,
表面形貌
张际亮
,
郦剑
,
沃银花
,
王幼文
,
甘正浩
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2006.01.017
应用化学气相沉积(CVD)方法在铝表面形成SiOx陶瓷涂层,通过弯曲实验研究了涂层与基体的结合性能.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了弯曲部位的表面形貌,弯曲过程表述为表面凹坑与内部孔洞联合长大,形成长条裂纹状沟槽或突脊,最后裂纹长大直至断裂.研究表明,基底与膜层结合良好,形成高结合力的原因是铝基底...
关键词:
铝基
,
SiOx薄膜
,
弯曲实验
,
结合力
,
机理