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退火处理对SnO2：F薄膜光电性能的影响

李铭 , 高倩 , 刘涌 , 宋晨路 , 韩高荣

材料科学与工程学报

SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火（深加工）后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行不同的退火处理。并通过一系列的研究,结果发现,薄膜的结构、组成、电学、光学性能在氮气和空气两种不同的退火气氛下会有显著的变化。SnO2∶F薄膜的Low-e性能经过空气中高温退火后下降明显。通过计算对比退火后SnO2∶F薄膜的晶格常数和晶胞尺寸,提出了一种对于薄膜Low-e性能下降的合理解释。

关键词: Low-e , SnO2∶F薄膜 , 退火 , 常压化学气相沉积

二甲基二氯化锡前驱体CVD制备SnO2∶F薄膜及其性能研究?

陈峰 , 张振华 , 赵会峰 , 鲍思权 , 姜宏

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.24.002

采用二甲基二氯化锡(DMTC)为新前驱体，通过常压CVD法在硼硅玻璃基板上制备 SnO2∶F透明导电薄膜，研究了DMTC、TFA和 H2 O的含量对薄膜结构及光电性能的影响，研究表明当 F/Sn 物质的量比为1∶1、H2 O/Sn物质的量比为3∶2时，制备出可见光透过率84.17%、方块电阻9.2Ω/□且结晶性能良好的多晶 SnO2薄膜。通过与单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱体所制备薄膜的性能进行比较，结果表明，两种前驱体所制备薄膜均具有四方金红石结构，利用DMTC不仅可以制备出与 MBTC性能相近的薄膜，同时薄膜表面更加均匀。

关键词: 二甲基二氯化锡 , 化学气相沉积法 , SnO2∶F薄膜

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