何迈
,
方萍
,
罗孟飞
中国稀土学报
采用原位XRD、激光Raman光谱和TPR技术研究了不同温度焙烧的CuO/CeO2-Al2O3催化剂中CuO物种的存在形式及其高温固相反应. 结果表明, 300 ℃焙烧催化剂CuO以晶相和非晶相形式存在于CeO2-Al2O3的表层. 600 ℃焙烧催化剂, 表层CuO部分迁移到CeO2内层, 并与载体Al2O3反应生成CuAl2O4. 800 ℃焙烧催化剂, 除了极少量CuO以晶相和非晶相形式存在于CeO2-Al2O3的表层外, 大部分CuO迁移到CeO2内层, 与载体反应生成CuAl2O4的量明显增加. 900 ℃焙烧催化剂, 所有的Cu物种都以CuAl2O4形式存在. 表明高温焙烧有利于CuO向CeO2内层迁移及内层CuO与载体Al2O3反应生成CuAl2O4.
关键词:
CuO/CeO2-Al2O3
,
TPR
,
固相反应
,
稀土
徐三魁
,
王向宇
,
梁丽珍
稀有金属材料与工程
用正交实验考察了溶液温度、pH值、搅拌速度等因素对催化剂吸附量的影响规律,并据此用浸渍及甲醛还原法制备了系列Ru/C催化剂,在0.5 MPa、120 ℃下测得葡萄糖加氢生成山梨醇的催化活性、山梨醇选择性和催化剂的稳定性.并运用程序升温还原TPR(temperature programmed reduction)技术研究了催化剂的表面还原性质.结果表明:钌的负载量对Ru/C催化剂的性能影响较大,钌负载量为5%时,制得的催化剂具有较佳的各项性能.钌的负载量越少时,负载钌的分散度越高,钌与载体间作用力越强,催化剂的还原温度越高.同时,随着含钌量的增加,催化剂的还原峰发生明显的变化,负载量为5%时出现了明显的肩峰,化学吸附是催化活性的主要来源.
关键词:
山梨醇
,
钌碳催化剂
,
葡萄糖
,
加氢
,
吸附
,
TPR
周文宏
,
吴江鹏
,
吴快乐
,
朱秀云
,
冷厚明
,
胡思前
合成材料老化与应用
doi:10.3969/j.issn.1671-5381.2011.02.004
根据正交实验,使用热压机制备了含阻燃剂的TPR复合弹性体,对其进行力学性能、极限氧指数、水平燃烧测定和差热分析,探讨阻燃剂对其阻燃性能和力学性能的影响.实验结果表明:Zn(BO<,3>)<,2>/APP/IPPP/TPR的质量比为0.280/0.176/0.070/1时,TPR复合弹性体的阻燃性能和力学性能较好,拉伸强度为1.33MPa;在89-777℃范围内炭残留量高达20.04%,水平燃烧符合GB/T 2408的FH-1级,极限氧指数为20.4.
关键词:
TPR
,
阻燃剂
,
极限氧指数
,
水平燃烧
桓源峰
,
孙加林
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2005.04.015
采用爆炸法合成系列钙钛矿结构复合氧化物La(RhMn)O3. 利用程序升温还原法(H2-TPR)测试贵金属(Rh)掺杂复合稀土氧化物(LaMnO3)的催化特性. 结果表明, 掺杂Rh后, 低温还原峰峰温逐渐降低, 钙钛矿的氧化性质发生了变化, 氧缺陷和易移动的晶格氧增多. 当掺杂少量Rh(0.2)后催化剂对H2的氧化温度明显降低, 同时氧化能力明显提高. 当Rh掺杂增加到一定量后, H2-TPR谱的高温还原峰面积和峰温又逐渐上升, 钙钛矿结构趋于稳定.
关键词:
汽车排放
,
贵金属
,
钙钛矿
,
复合稀土氧化物
,
TPR
杨晓东
,
何迈
,
方萍
,
肖珊美
,
罗孟飞
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.03.018
采用XRD、激光Raman光谱和TPR技术研究了CuO/La2O3-Al2O3催化剂中CuO高温迁移及固相反应.结果表明,800℃焙烧的CuO(20%)/La2O3(x%)-Al2O3催化剂,低La2O3负载量(5%和10%)时,La2O3(x%)-Al2O3载体表面即存在CuO和少量CuAl2O4;当La2O3负载量增大(≥20%)时,由于La2O3的阻止作用,使得CuO无法迁移到La2O3内层和Al2O3反应生成CuAl2O4,从而使CuO稳定存在于催化剂表层.高温焙烧(≥900℃),La2O3的隔离作用下降,从而导致生成CuAl2O4.
关键词:
CuO/La2O3-Al2O3
,
XRD
,
Raman光谱
,
TPR
,
固相反应
王琪
,
郝影娟
,
陈爱平
,
姚光华
,
杨意泉
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.05.016
采用XRD和TPR测试技术表征了一系列不同K与Mo摩尔比的MoO3/K2O/SiO2催化剂.XRD表征结果显示,随着元素K的加入,多钼物种逐渐被破坏,最终形成了单钼的K2MoO4物种.TPR表征显示,催化剂表面的钼物种有2种结构,即八面体的Mo(Oh)和四面体的Mo(Td).八面体Mo(Oh)的还原峰在770 K附近,而四面体Mo(Td)还原峰在1 000 K附近;无K的MoO3/SiO2催化剂的低温还原峰出现在840 K,少量元素K的添加削弱了Mo与SiO2之间的作用,使得低温还原峰温度降低到770 K附近;随着元素K添加量的进一步增加,Mo(Oh)物种逐渐减少而Mo(Td)物种逐渐增多,从而使得催化剂表面的Mo更难被还原.高硫合成气制甲硫醇的活性随着钼基催化剂八面体(Oh)钼物种的增加而增加.
关键词:
MoO3/K2O/SiO2催化剂
,
XRD
,
TPR
,
高硫合成气
,
甲硫醇
