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还原氧化钽制备钽粉工艺研究进展

王东新 , 李军义 , 孙本双 , 任晓 , 何季麟

中国材料进展

评述了几种由氧化钽还原制取钽粉的新工艺。并阐述了不同方法的工艺原理、特点和产品特性。钠还原法反应时间短,还原温度范围广,能过得到高纯度高比表面的钽粉。FFC法具有工艺简单,污染小,成本低的特点,可以用来制备电容器级粉末。SOM法电解速度快,具有很好的发展前景。采用镁蒸汽还原能够得到性能好的钽粉,但是还原时间长,还原装置复杂。

关键词: Ta2O5 , 钽粉 , 生产工艺 , 氧化钽还原

阳极氧化法制备非晶Ta2O5及绝缘性能研究

杨兰 , 郭太良

功能材料

利用阳极氧化法制备Ta2O5绝缘介质薄膜。扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)和X射线衍射仪(XRD)研究表明Ta2O5绝缘介质薄膜表面平整,致密,呈非晶态。电击穿场强测试系统研究利用Ta-Ta2O5-Al复合薄膜制备FED器件(MIM结构)的绝缘性,表明薄膜具有较高的耐击穿场强,约为2.3MV/cm,分析Ta2O5的导通机理,主要为肖特基效应和F-N效应。

关键词: Ta2O5 , 阳极氧化 , 绝缘介质 , 导通机制

熔盐电脱氧法制备金属钽的研究

胡小锋 , 许茜

金属学报

采用熔盐电脱氧法制备金属钽,在800 ℃下的CaCl2-NaCl混合熔盐体系内,用烧结后的Ta2O5片体做阴极,高密度石墨碳棒做阳极,在工作电压为3.1 V的条件下进行电解脱氧反应。研究了1000 ℃烧结4小时前后的Ta2O5片体的孔隙率和微观形貌,及阴极片结构对电解还原反应过程的影响,利用XRD分析了电解产物的相组成,采用称重法测量了电解产物的氧含量。结果显示:采用熔盐电脱氧法可以制备出金属单质钽,阴极片的大孔隙率有利于电解脱氧反应的进行,扩散过程是影响熔盐电脱氧反应速度的重要环节。

关键词: Ta2O5 , electro-deoxidization , tantalum , molten salt , diffusion

高k材料Ta2O5结构与电学性质的研究

陈息林 , 余涛 , 吴雪梅 , 董尧君 , 诸葛兰剑

功能材料

利用双离子束沉积设备在p-Si(100)衬底上制备了Ta2O5基MOS电容,研究了不同辅源能量0、100、200、300eV下薄膜生长机制、内部结构以及电学性质的差异。实验结果显示,在辅源能量200eV下制备的Ta2O5薄膜具有最小的表面粗糙度和优异的界面特性。由C-V/I-V特征曲线表明,辅源能量200eV下制备的Ta2O5基MOS电容具有最小的平带电压偏移量、氧化层电荷密度以及漏电流。研究表明合适的辅源能量可有效改善薄膜生长机制,使薄膜由类岛状沉积转化为层状生长,从而提高晶粒均匀性、薄膜平整度以及致密性,使薄膜具有较好的电学性质。

关键词: 高k栅介质 , Ta2O5 , MOSFET器件 , 微结构 , 电学性质

衬底温度对Ta2O5薄膜结构和光学性质的影响

马亚林 , 石健 , 李绪诚 , 杨利忠 , 邓朝勇

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.23.010

采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备 Ta2 O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度为450℃时,薄膜开始结晶。低于450℃,薄膜为无定形态,光学透过率随着衬底温度的升高而升高,在可见光区域最大透过率为85%。薄膜结晶生成晶粒,会对通过的光束产生散射,降低透过率,光学性能下降。这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构、结晶转变温度及光学性质密切相关。

关键词: 磁控溅射 , Ta2O5 , 光学薄膜 , 结晶 , 透过率

CeO2添加对Ta2O5低膨胀陶瓷结构与性能的影响

李月明 , 江瑜华 , 许素芳 , 张小珍 , 周健儿

人工晶体学报

采用干压成型和高温固相反应烧结制备了CeO2改性Ta2O5低膨胀陶瓷材料.研究了CeO2加入量对制备的Ta2O5陶瓷样品的物相组成、微观结构、热膨胀性能、抗折强度和抗热震性能等的影响.结果表明,经1450℃保温2h烧成,纯Ta2O5陶瓷由β-Ta2O5组成,存在明显的开裂现象,表现出负的热膨胀系数(-1.02×10-6℃-1)和低的抗折强度(1.69 MPa).添加CeO2后,除β-Ta2O5主晶相外,还生成了六方相针状CeTa7O19晶体.适量CeO2的加入可有效抑制Ta2O5陶瓷的高温可逆相转变和消除开裂现象,形成致密的微观结构,样品呈现低的正热膨胀系数,抗折强度和抗热震性能显著提高.

关键词: 低膨胀陶瓷 , Ta2O5 , CeO2 , 热膨胀系数 , 抗折强度

衬底负偏压对溅射Ta2O5薄膜晶化温度及介电性能的影响

许仕龙 , 朱满康 , 黄安平 , 王波 , 严辉

无机材料学报

采用磁控溅射法,在衬底温度为620℃时,通过引入合适的衬底负偏压(100~200V),获得了结晶良好的Ta2O5薄膜,衬底负偏压增强了正离子对衬底表面的轰击作用,加速了其在衬底表面的松弛扩散效应,从而降低了Ta2O5薄膜的晶化温度,改善了其结晶性。同时,C—V测试结果表明:衬底负偏压进一步改善了Ta2O5薄膜的介电性能.

关键词: Ta2O5 , dielectric films , crystallization temperature , bias

表面活性剂对Ti/IrO2+Ta2O5阳极性能的影响

辛永磊 , 许立坤 , 李先国 , 王均涛 , 李相波 , 陈光章

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2008.05.010

采用热分解法和Pechini法制备了Ti/IrO2+Ta2O5阳极,通过SEM、极化曲线、循环伏安、电化学阻抗谱及强化电解寿命试验等测试手段,研究表面活性剂对Ti/IrO2+Ta2O5阳极微观结构和电催化性能的影响.结果表明,加入适量的表面活性剂十二烷基硫酸钠(SDS)可以明显改善涂液的涂刷性能;与热分解法相比,阳极表面呈现较多的龟裂纹,而且裂纹变宽加深,其电化学活性表面积增大,析氧电催化活性提高,但稳定性降低.

关键词: 氧化物阳极 , 十二烷基硫酸钠 , Pechini法 , IrO2 , Ta2O5

钛基IrO2-Ta2O5涂层阳极电化学多孔性研究

胡吉明 , 朱艳冗 , 孟惠民 , 孙冬柏 , 吴继勋 , 杨德钧

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2000.05.007

用循环伏安法研究了不同成分及不同热分解温度所得钛基IrO2-Ta2O5阳极电化学活性与多孔特性.阳极的电化学活性表面积随涂层中氧化物的成分变化而呈振荡变化;表面活性点数目随制备温度上升而下降.当阳极中IrO2的摩尔分数为 0.7时,氧化物阳极的孔隙率达到最低值;孔隙率随制备温度上升而下降.

关键词: 氧化物阳极 , IrO2 , Ta2O5 , 电化学活性 , 电化学孔隙率

溶胶-凝胶法制备的Ti/IrO2+Ta2O5阳极涂层性能

袁洪飞

材料保护

热分解法制备的涂层性能不够理想,现更多采用溶胶-凝胶法,但传统溶胶-凝胶法制备阳极仍存在工艺复杂、可操作性差的缺点.从电极的前驱体入手,将贵金属的无机盐制备成有机盐,采用溶胶-凝胶法制备了Ti/IrO2+Ta2O5阳极涂层,并与热分解法制备的涂层进行了对比研究.经SEM,EDX,循环伏安,电化学阻抗谱及强化电解寿命试验表明,与热分解法相比,由溶胶-凝胶法制备的氧化物阳极涂层表面呈现较多的龟裂纹,且有少量氧化铱晶簇析出,其电化学活性表面积增大,提高了电极的电催化活性,但稳定性降低.

关键词: 溶胶-凝胶法 , 氧化物阳极 , 涂层性能 , 钛材 , IrO2 , Ta2O5

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