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工艺参数对磁控溅射TaOx薄膜离子导体性能的影响

黄佳木 , 吕佳 , 张新元 , 覃丽禄

材料导报

采用射频反应磁控溅射工艺,以纯钽为靶材,在WO3/ITO/Glass基材上制备TaOx薄膜,研究氧含量、溅射功率等制备工艺参数对TaOx薄膜性能的影响.用三位电极法和透射光谱等方法检测薄膜的离子导电性能,结果表明:所得的TaOx薄膜主要为非晶态,在一定范围内,在较低的溅射功率和较低的氧含量实验条件下制备的TaOx薄膜具有较好的离子导电性能.

关键词: TaOx , 非晶态薄膜 , 离子导体 , 磁控溅射