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铀表面等离子体浸没离子注入沉积制备氮化层+Ti/TiN多层膜的结构与性能

黄河 , 白彬 , 赖新春 , 刘天伟 , 严东旭 , 龙重

材料保护

为了改善金属铀的摩擦磨损和抗腐蚀性能,采用等离子体浸没离子注入沉积(PIII&D)技术在铀表面氮化,再沉积Ti/TiN多层膜.利用扫描电镜和X射线衍射分析了薄膜的形貌和组织结构;对薄膜的摩擦磨损和抗湿热腐蚀性能进行了测试.结果表明:薄膜表面致密,界面晶粒柱状生长方式被阻断,晶粒细化;薄膜为Ti和TiN的双相结构,衍射谱中出现了UO_2和U_2N_3的衍射峰;薄膜大大提高了铀基体的摩擦磨损和抗湿热腐蚀性能,调制周期对薄膜性能的影响较大.

关键词: 氮化 , Ti/TiN多层膜 , 等离子体浸没离子注入沉积 , , 性能

沉积温度对磁控溅射Ti/TiN多层膜光学和电学性能的影响

胡敏 , 刘莹

机械工程材料

采用直流反应磁控溅射法于不同温度下在Si(111)基底上制备了Ti/TiN多层膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对膜的物相和表面形貌进行了分析,研究了沉积温度对膜结构及其光学、电学性能的影响.结果表明:不同沉积温度下制备的Ti/TiN多层膜均由钛和TiN相组成,多层膜与单层TiN膜一样,其表面粗糙度随沉积温度的升高而减小,电阻率随沉积温度的升高显著降低;其表面形貌则比单层膜更加致密和均匀;多层膜红外反射率与其电阻率有关,当电阻率减小时,红外反射率增大.

关键词: 磁控溅射 , Ti/TiN多层膜 , 溅射电流 , 沉积温度

磁控溅射沉积Ti/TiN多层膜的组织特征及耐磨损性能

崔文芳 , 曹栋 , 秦高悟

金属学报 doi:10.11900/0412.1961.2015.00115

采用固定Ti间隔层厚度,改变TiN层厚度的方法在Ti6Al4V合金表面制备Ti/TiN多层膜,研究循环周期对Ti/TiN多层膜的相结构、形貌特征、结合力、硬度和在模拟人体液中摩擦磨损行为的影响.结果表明,与TiN单层膜相比,Ti/TiN多层膜中TiN由(111)择优取向转变为(200)择优取向,多层膜表面粗糙度、硬度和结合力得到显著改善.增加循环周期降低Ti/TiN多层膜表面硬度,但有利于提高结合强度.多层Ti/TiN膜的强韧化主要来自于TiN层的细晶强化和界面共格强化效应.当TiN与Ti层厚度比为30,循环周期为3时,Ti/TiN多层膜具有良好的综合性能,硬度为15.8 GPa,结合强度为50N,摩擦系数为0.35,体积磨损率低于4.0× 10-6 mm3/(N·m).

关键词: Ti/TiN多层膜 , 磁控溅射 , 循环周期 , 组织结构 , 磨损性能

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