李永良
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稀有金属材料与工程
为了克服MoS2薄膜在大气环境下极易氧化失效且耐磨性能差的缺点,采用非平衡直流磁控溅射技术制备了MoS2/Ti复合膜,研究了Ti靶电流对复合膜结构和性能的影响.电子探针(EPMA)测定表明,膜中Ti的含量随着Ti靶电流的增加而增加.场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)对膜的表面和截面形貌观察发现,膜的表面由尺寸为几十～几百纳米的颗粒组成,而膜的截面呈柱状晶结构.膜的致密性和Ti靶电流有关,电流越高,膜的致密性越好,从而膜的硬度也越高.
关键词:
MoS2/Ti复合膜
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直流磁控溅射
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Ti靶电流
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性能
贠柯
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蒋百灵
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白力静
材料热处理学报
利用磁控溅射技术在高速钢和单晶硅基体上沉积CrTiAlN梯度镀层,研究Ti靶电流对CrTiAlN镀层组织、相结构及硬度的影响.利用EDS、XRD和SEM分析镀层的成分、相结构及形貌,采用显微硬度计测量镀层的硬度.结果表明:随着Ti靶电流的增大,镀层中的Ti原子逐渐置换CrN中的Cr原子形成Cr-Ti-N体系,同时出现少量的TiN相;镀层生长的择优取向由(111)晶面逐渐转变为(200)晶面;镀层柱状晶的结构更为致密,其表面形貌由三棱锥结构逐步变为胞状结构;随Ti靶电流的增大,镀层硬度逐渐由1267HV升至1876HV.
关键词:
Ti靶电流
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CrTiAlN镀层
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组织结构
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硬度
